[發(fā)明專利]一種反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110209871.4
• 申請日: 2021-02-24
• 公開（公告）號(hào): CN112937021B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 萬新領(lǐng);高元亨;成天耀;羅志藝
• 申請（專利權(quán)）人: 惠州聯(lián)合銅箔電子材料有限公司
• 主分類號(hào): B32B15/04
• 分類號(hào): B32B15/04;B32B15/20;B32B7/12;B32B33/00;B32B37/10;B32B38/18
• 代理公司: 成都明濤智創(chuàng)專利代理有限公司 51289
• 代理人: 杜夢

1.一種反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：包括銅箔組合帶、用于傳輸所述銅箔組合帶的第一傳動(dòng)輥組、干膜組合帶、用于傳輸所述干膜組合帶的第二傳動(dòng)輥組、干膜刻印帶以及用于傳輸所述干膜刻印帶的第三傳動(dòng)輥組，所述銅箔組合帶的表面具有第一粗糙紋理，所述干膜刻印帶與所述干膜組合帶同步傳輸，所述干膜刻印帶用于將干膜組合帶表面刻印出粗糙表面，所述銅箔組合帶與干膜組合帶之間通過壓緊機(jī)構(gòu)壓緊配合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：還包括傳遞帶以及用于傳輸所述傳遞帶的第四傳動(dòng)輥組，所述傳遞帶與所述銅箔組合帶同步傳輸用于將傳遞帶表面刻印出第二粗糙紋理，所述干膜刻印帶與所述傳遞帶同步傳輸用于將干膜刻印帶表面刻印出與第三粗糙紋理，所述干膜組合帶通過干膜刻印帶刻印有第四粗糙紋理，其中第一粗糙紋理與第三粗糙紋理相同，第二粗糙紋理與第四粗糙紋理相同且與第一粗糙紋理和第三粗糙紋理相反。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：所述第一傳動(dòng)輥組、第二傳動(dòng)輥組和第四傳動(dòng)輥組均設(shè)置在一殼體上，所述第三傳動(dòng)輥組設(shè)置在一移動(dòng)板上，所述殼體上開設(shè)有滑槽，所述移動(dòng)板上固設(shè)有一滑桿，所述滑桿滑動(dòng)地設(shè)置在所述滑槽內(nèi)且通過鎖緊裝置鎖緊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：所述壓緊機(jī)構(gòu)包括左右對稱的壓輥組件，所述壓輥組件包括壓輥本體、轉(zhuǎn)動(dòng)軸、壓輥?zhàn)椭箘?dòng)裝置，所述壓輥本體的中心固定有所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸的兩端分別與所述壓輥?zhàn)D(zhuǎn)動(dòng)連接，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過所述止動(dòng)裝置停止。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：所述止動(dòng)裝置包括壓緊支架、摩擦止動(dòng)塊、壓緊桿、轉(zhuǎn)動(dòng)螺母和彈簧，所述壓緊支架呈L型，所述壓緊桿和壓緊支架的一端分別與所述壓輥?zhàn)鶚薪樱鰤壕o支架的另一端開設(shè)有用于壓緊桿配合的開口槽，所述壓緊桿的上端與轉(zhuǎn)動(dòng)螺母螺紋配合，所述摩擦止動(dòng)塊設(shè)置在壓緊支架的內(nèi)側(cè)，摩擦止動(dòng)塊通過轉(zhuǎn)動(dòng)螺母壓緊于轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述彈簧套設(shè)在壓緊桿的外側(cè)，所述彈簧的兩端分別與轉(zhuǎn)動(dòng)螺母和壓緊支架抵接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：所述壓輥?zhàn)显O(shè)置有第一軸承和第二軸承，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于第一軸承和第二軸承之間形成的間隙內(nèi)，所述摩擦止動(dòng)塊的上側(cè)中部與所述壓緊支架樞接，所述壓緊支架的上側(cè)設(shè)置有第一螺釘和第二螺釘，所述第一螺釘和第二螺釘?shù)南露朔謩e與摩擦止動(dòng)塊的兩側(cè)抵接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反轉(zhuǎn)銅箔加工設(shè)備，其特征在于：所述銅箔組合帶包括依次粘接的第一基層、第一彈性層和銅箔層，所述銅箔層的粗面朝向外側(cè)，所述干膜組合帶包括依次粘接的第二基層、第二彈性層和干膜層，所述干膜層朝向外側(cè)。