[發(fā)明專利]一種確定目標(biāo)對象位置的方法、裝置及設(shè)備與存儲介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110209371.0
• 申請日: 2021-02-24
• 公開（公告）號: CN113012221A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙佳男
• 申請（專利權(quán)）人: 上海眼控科技股份有限公司
• 主分類號: G06T7/73
• 分類號: G06T7/73;G06T7/246;G06N3/04;G06F17/16
• 代理公司: 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11489
• 代理人: 陳超

1.一種確定目標(biāo)對象位置的方法，其特征在于，包括：

根據(jù)狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣的基本量和所述基本量的校正量確定狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣；其中，所述基本量的校正量是根據(jù)各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值和方差矩陣確定的，目標(biāo)對象對應(yīng)的差值是指目標(biāo)對象的追蹤框的設(shè)定點位置與檢測框的設(shè)定點位置的差值；以及，

確定增益系數(shù)、目標(biāo)對象的預(yù)測位置和檢測位置；

根據(jù)所述增益系數(shù)和檢測預(yù)測位置誤差確定所述預(yù)測位置的校正量；其中，所述檢測預(yù)測位置誤差是根據(jù)所述檢測位置和所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量確定的，所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量是根據(jù)所述狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣和所述預(yù)測位置確定的；

根據(jù)所述預(yù)測位置和所述預(yù)測位置的校正量確定目標(biāo)對象位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)下列公式確定所述狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣：

H＝Σd_mΣ^T-μ|Σ|^-1；

其中，H為狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣，Σd_mΣ^T為狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣的基本量，μ|Σ|^-1為基本量的校正量，Σ為各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的方差矩陣，Σ^T為Σ的轉(zhuǎn)置，|Σ|^-1為Σ的行列式的倒數(shù)，d_m為檢測位置，μ為各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值，目標(biāo)對象對應(yīng)的差值是指目標(biāo)對象的追蹤框的中心點位置與檢測框的中心點位置的差值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述增益系數(shù)，包括：

根據(jù)各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值確定所述增益系數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，根據(jù)下列公式確定所述增益系數(shù)：

K_a＝μ；

其中，K_a為增益系數(shù)，μ為各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值，目標(biāo)對象對應(yīng)的差值是指目標(biāo)對象的追蹤框的中心點位置與檢測框的中心點位置的差值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)下列公式確定所述目標(biāo)對象位置：

其中，為目標(biāo)對象位置，為預(yù)測位置，為預(yù)測位置的校正量，K_a為增益系數(shù)，為檢測預(yù)測位置誤差，d_m為檢測位置，為預(yù)測位置在檢測空間的映射量，H為狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣。

6.一種確定目標(biāo)對象位置的方法，其特征在于，包括：

根據(jù)各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值確定增益系數(shù)；其中，目標(biāo)對象對應(yīng)的差值是指目標(biāo)對象的追蹤框的設(shè)定點位置與檢測框的設(shè)定點位置的差值；以及，

確定狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣、目標(biāo)對象的預(yù)測位置和檢測位置；

根據(jù)所述增益系數(shù)和檢測預(yù)測位置誤差確定所述預(yù)測位置的校正量；其中，所述檢測預(yù)測位置誤差是根據(jù)所述檢測位置和所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量確定的，所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量是根據(jù)所述狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣和所述預(yù)測位置確定的；

根據(jù)所述預(yù)測位置和所述預(yù)測位置的校正量確定目標(biāo)對象位置。

7.一種確定目標(biāo)對象位置的裝置，其特征在于，包括：

第一獲取模塊，用于根據(jù)狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣的基本量和所述基本量的校正量確定狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣；其中，所述基本量的校正量是根據(jù)各目標(biāo)對象對應(yīng)的各差值的均值和方差矩陣確定的，目標(biāo)對象對應(yīng)的差值是指目標(biāo)對象的追蹤框的設(shè)定點位置與檢測框的設(shè)定點位置的差值；以及，確定增益系數(shù)、目標(biāo)對象的預(yù)測位置和檢測位置；

第一確定模塊，用于根據(jù)所述增益系數(shù)和檢測預(yù)測位置誤差確定所述預(yù)測位置的校正量；其中，所述檢測預(yù)測位置誤差是根據(jù)所述檢測位置和所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量確定的，所述預(yù)測位置在檢測空間的映射量是根據(jù)所述狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣和所述預(yù)測位置確定的；

第一處理模塊，用于根據(jù)所述預(yù)測位置和所述預(yù)測位置的校正量確定目標(biāo)對象位置。