[發明專利]反射微鏡陣列的測試方法及測試裝置有效
| 申請號: | 202110202684.3 | 申請日: | 2021-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN113341304B | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發明(設計)人: | 鄧楊春;王雅雄;魏仁龍;趙團偉 | 申請(專利權)人: | 歌爾光學科技有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/308 | 分類號: | G01R31/308;G01R31/28 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 王韜 |
| 地址: | 261031 山東省濰坊市高新區清池街*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 陣列 測試 方法 裝置 | ||
1.一種反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供一光源設備,所述光源設備向反射微鏡陣列的無微鏡陣列區域發出預設波長的檢測光束,通過蓋玻璃反射將反射微鏡陣列與檢測光束垂直,平移反射微鏡陣列,將所述檢測光束所形成的激光光斑調整到反射微鏡陣列的微鏡陣列區域,形成閃耀光柵的二維衍射光斑;
根據光柵公式和閃耀條件計算出光譜的閃耀級次n,沿Y方向旋轉反射微鏡陣列,在反射微鏡陣列處于on狀態時,水平方向的第n級次光斑調整到與所述檢測光束重合,接收所述第n級次光斑的反射光,獲得所述第n級次光斑的反射光的反射率,并得到反射微鏡陣列沿Y向上的旋轉角度;以及
以第一預設間隔改變所述光源設備出射光波長,以重復得到沿Y方向的旋轉角度以及所述反射光的反射率,直到預設范圍內波長光的旋轉角度和反射光的反射率均被記錄,其中,所述反射光的反射率最大時所對應的旋轉角度為反射微鏡陣列處于on狀態時的偏轉角度,以生成反射微鏡陣列處于on狀態時的偏轉角度的測試結果。
2.如權利要求1所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,根據所述閃耀光柵的參數生成反射微鏡陣列的偏轉角度的測試結果的步驟包括:
使反射微鏡陣列處于off狀態,得到所述閃耀光柵的參數,以生成反射微鏡陣列處于off狀態時的偏轉角度的測試結果。
3.如權利要求2所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,所述閃耀光柵的參數為所述閃耀光柵的閃耀角,將所述閃耀光柵的閃耀角作為所述反射微鏡陣列的偏轉角度,并與所述反射微鏡陣列的預設偏轉角度進行比較,以得到測試結果。
4.如權利要求2所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,所述使反射微鏡陣列處于off狀態,得到所述閃耀光柵的參數,以生成反射微鏡陣列處于off狀態時的偏轉角度的測試結果的步驟包括:
通過所述蓋玻璃反射的光將所述反射微鏡陣列調整為與所述檢測光束垂直,沿Z方向旋轉所述反射微鏡陣列,在反射微鏡陣列處于off狀態時,水平方向的所述第n級次光斑調整到與所述檢測光束入射光線重合,接收所述第n級次光斑的反射光,獲得所述第n級次光斑的反射光的反射率,并得到反射微鏡陣列沿Z向上的旋轉角度;以及
以第一預設間隔改變所述光源設備出射光波長,以重復得到沿Z向的旋轉角度以及所述反射光的反射率,直到預設范圍內波長光的所述旋轉角度和所述反射光的反射率均被記錄,其中,所述反射光的反射率最大時所對應的旋轉角度為反射微鏡陣列處于off狀態時的偏轉角度。
5.如權利要求1或4所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,所述光源設備為光譜儀,所述光源設備連接有Y形光纖頭,用于接收所述第n級次光斑的反射光,以獲取所述第n級次光斑的反射光的反射率。
6.如權利要求2所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,所述使反射微鏡陣列處于on狀態,得到所述閃耀光柵的參數,以生成反射微鏡陣列處于on狀態時的偏轉角度的測試結果的步驟包括:
根據光柵公式和閃耀條件計算出光譜的閃耀級次,沿Y方向旋轉反射微鏡陣列,在反射微鏡陣列處于on狀態時,水平方向的第n級次光斑調整到與所述檢測光束重合,通過功率計接收所述第n級次光斑,得到第一功率值;
更換另一個反射微鏡陣列,重復上述得到第一功率值的步驟;以及
對比多個反射微鏡陣列的第一功率值,其中,所述第一功率值與對應的反射微鏡陣列處于on狀態時的偏轉角度的精準度呈正相關。
7.如權利要求6所述的反射微鏡陣列的測試方法,其特征在于,在執行所述得到第一功率值的步驟之后,所述反射微鏡陣列的測試方法還包括:
沿Z、Y方向平移反射微鏡陣列,使得檢測光束到達反射微鏡陣列的其他位置,重復上述獲取第一功率值的步驟,以得到反射微鏡陣列的多個位置的第一功率值;以及
得到多個第一功率值的平均值,對比多個反射微鏡陣列的第一功率值的平均值,其中,第一功率值的平均值與對應的反射微鏡陣列處于on狀態時的偏轉角度的精準度正相關。
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