[發明專利]一種噴嘴表面的鍍膜方法在審
| 申請號： | 202110198802.8 | 申請日： | 2021-02-22 |
| 公開（公告）號： | CN114959557A | 公開（公告）日： | 2022-08-30 |
| 發明（設計）人： | 胡詠兵 | 申請（專利權）人： | 東莞新科技術研究開發有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/02 | 分類號： | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/34;C23C4/123;C23C4/08 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫 |
| 地址： | 523087 *** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 噴嘴 表面 鍍膜 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，包括：
將噴嘴置于真空室內，控制真空室內的氣壓穩定在0.5Pa，溫度穩定在300℃，并以第一預設流量向真空室內通入氬氣；
啟動平面碳靶，將平面碳靶的控制電源的功率調整至5kW，在噴嘴的表面進行第一次濺射，相應形成碳過渡層；
將真空室內的溫度調整至500℃，將平面碳靶的控制電源的功率調整至10kW，向噴嘴施加-200V的偏壓，在碳過渡層的表面進行第二次濺射，相應形成摻雜碳的類金剛石鍍膜層；
將通入的氬氣流量增加至第二預設流量，向噴嘴施加-400V的偏壓，啟動柱弧鉻靶，在類金剛石鍍膜層的表面進行第三次濺射，相應形成鉻層；其中，柱弧電流為50A。
2.如權利要求1所述的噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，所述第一預設流量為10mL/min。
3.如權利要求1所述的噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，所述第二預設流量為50mL/min。
4.如權利要求1所述的噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，第一次濺射的濺射時間為5min～8min。
5.如權利要求1所述的噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，第二次濺射的濺射時間為24min～45min。
6.如權利要求1所述的噴嘴表面的鍍膜方法，其特征在于，第三次濺射的濺射時間為30min。
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