[發(fā)明專(zhuān)利]基片液處理裝置和液體釋放評(píng)價(jià)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110182809.0
• 申請(qǐng)日: 2021-02-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113275193A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 脅山輝史;道木裕一;田中明賢;田代稔;北山玲王;山本周
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B05C5/02
• 分類(lèi)號(hào): B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;徐飛躍

本發(fā)明提供一種基片液處理裝置和液體釋放評(píng)價(jià)方法。控制部控制液體供給部，使第一液體釋放噴嘴移動(dòng)并從第一液體釋放噴嘴向基片的表面釋放液體，使基片的表面上的液體的著落位置持續(xù)地變化。并且，控制部通過(guò)比較第一溫度信息和第二溫度信息，來(lái)導(dǎo)出液體供給部的釋放位置偏移信息，其中第一溫度信息使基于在使第一液體釋放噴嘴沿第一噴嘴路徑移動(dòng)的情況下由溫度測(cè)量部測(cè)量出的點(diǎn)溫度的信息，第二溫度信息是基于在使第一液體釋放噴嘴沿與第一噴嘴路徑不同的第二噴嘴路徑移動(dòng)的情況下由溫度測(cè)量部測(cè)量出的點(diǎn)溫度的信息。根據(jù)本發(fā)明，能夠獲得關(guān)于在對(duì)基片供給液體的液體供給部可能產(chǎn)生的釋放位置偏移的信息。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基片液處理裝置和液體釋放評(píng)價(jià)方法。

背景技術(shù)

已知有一邊使噴嘴移動(dòng)一邊從噴嘴向基片釋放處理液的裝置(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2013-251335號(hào)公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題

從高精度地進(jìn)行基片的液處理的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，使從噴嘴釋放的處理液著落在基片的希望位置是有利的。為了使處理液高精度地著落在基片的希望位置，掌握在用于對(duì)基片供給液體的液體供給部是否產(chǎn)生了釋放位置偏移以及產(chǎn)生了何種程度的釋放位置偏移是有利的。

本發(fā)明提供能夠獲得關(guān)于在對(duì)基片供給液體的液體供給部可能產(chǎn)生的釋放位置偏移的信息的技術(shù)。

用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)手段

本發(fā)明的一方式涉及一種基片液處理裝置，其包括：保持基片的基片保持部；能夠以旋轉(zhuǎn)軸線(xiàn)為中心使基片旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；液體供給部，其具有釋放溫度與基片不同的液體的第一液體釋放噴嘴和使第一液體釋放噴嘴移動(dòng)的噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)；對(duì)點(diǎn)溫度進(jìn)行測(cè)量的溫度測(cè)量部，其中，點(diǎn)溫度是基片的表面中的特定點(diǎn)的溫度和特定點(diǎn)上的液體的溫度中的至少任一者；以及控制部，其控制液體供給部，使第一液體釋放噴嘴移動(dòng)并從第一液體釋放噴嘴向基片的表面釋放液體，使基片的表面上的液體的著落位置持續(xù)地變化，并且，通過(guò)比較第一溫度信息和第二溫度信息，來(lái)導(dǎo)出液體供給部的釋放位置偏移信息，其中，第一溫度信息是基于在使第一液體釋放噴嘴沿第一噴嘴路徑移動(dòng)的情況下由溫度測(cè)量部測(cè)量出的點(diǎn)溫度的信息，第二溫度信息是基于在使第一液體釋放噴嘴沿與第一噴嘴路徑不同的第二噴嘴路徑移動(dòng)的情況下由溫度測(cè)量部測(cè)量出的點(diǎn)溫度的信息。

發(fā)明效果

依照本發(fā)明，能夠獲得關(guān)于在對(duì)基片供給液體的液體供給部可能產(chǎn)生的釋放位置偏移的信息。

附圖說(shuō)明

圖1是表示處理系統(tǒng)的一個(gè)例子的概要的圖。

圖2是表示處理單元的一個(gè)例子的概要的圖。

圖3是表示控制部的功能構(gòu)成的一個(gè)例子的框圖。

圖4是表示保持于基片保持部的基片的一個(gè)例子的俯視圖。

圖5是用于說(shuō)明正常的配管的一個(gè)例子的概要圖。

圖6是用于說(shuō)明配管誤連接的一個(gè)例子的概要圖。

圖7是用于說(shuō)明液體釋放噴嘴的釋放異常的一個(gè)例子的概要圖。

圖8是用于說(shuō)明釋放位置偏移量的計(jì)算方法的一個(gè)例子的曲線(xiàn)圖。

圖9是用于說(shuō)明釋放位置偏移量的計(jì)算方法的另一個(gè)例子的曲線(xiàn)圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

10 處理單元

11 基片保持部

13 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)