[發明專利]基片液處理裝置和液體釋放評價方法

在審

• 申請號: 202110182809.0
• 申請日: 2021-02-10
• 公開（公告）號: CN113275193A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 脅山輝史;道木裕一;田中明賢;田代稔;北山玲王;山本周
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;徐飛躍

1.一種基片液處理裝置，其特征在于，包括：

保持基片的基片保持部；

能夠以旋轉軸線為中心使所述基片旋轉的旋轉機構；

液體供給部，其具有釋放溫度與所述基片不同的液體的第一液體釋放噴嘴和使所述第一液體釋放噴嘴移動的噴嘴移動機構；

對點溫度進行測量的溫度測量部，其中，所述點溫度是所述基片的表面中的特定點的溫度和所述特定點上的所述液體的溫度中的至少任一者；以及

控制部，其控制所述液體供給部，使所述第一液體釋放噴嘴移動并從所述第一液體釋放噴嘴向所述基片的所述表面釋放所述液體，使所述基片的所述表面上的所述液體的著落位置持續地變化，并且，通過比較第一溫度信息和第二溫度信息，來導出所述液體供給部的釋放位置偏移信息，其中，所述第一溫度信息是基于在使所述第一液體釋放噴嘴沿第一噴嘴路徑移動的情況下由所述溫度測量部測量出的所述點溫度的信息，所述第二溫度信息是基于在使所述第一液體釋放噴嘴沿與所述第一噴嘴路徑不同的第二噴嘴路徑移動的情況下由所述溫度測量部測量出的所述點溫度的信息。

2.如權利要求1所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述第一溫度信息和所述第二溫度信息是基于通過一邊使所述基片旋轉一邊使所述基片的所述表面上的所述液體的著落位置持續地變化而得到的所述點溫度的測量結果的信息，

當獲取所述第一溫度信息時，從沿所述第一噴嘴路徑移動的所述第一液體釋放噴嘴釋放出的所述液體在所述基片的所述表面上的著落位置的軌跡通過所述基片的所述表面中的特定環狀區域，其中，所述特定環狀區域是所述著落位置與所述旋轉軸線的距離和所述旋轉軸線與所述特定點之間的距離相等的區域，

當獲取所述第二溫度信息時，從沿所述第二噴嘴路徑移動的所述第一液體釋放噴嘴釋放出的所述液體在所述基片的所述表面上的著落位置的軌跡通過所述特定環狀區域。

3.如權利要求1或2所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述第一液體釋放噴嘴沿圓弧狀的移動軌道移動，

所述第一噴嘴路徑是沿所述移動軌道從所述移動軌道的一側去往另一側的路徑，

所述第二噴嘴路徑是沿所述移動軌道從所述移動軌道的所述另一側去往所述一側的路徑。

4.如權利要求1～3中任一項所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述噴嘴移動機構具有與所述第一液體釋放噴嘴一起移動的驅動臂，

所述釋放位置偏移信息包含關于所述驅動臂的移動位置的偏移的信息。

5.如權利要求1～4中任一項所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述液體供給部具有第二液體釋放噴嘴，

所述釋放位置偏移信息包含關于連接到所述第一液體釋放噴嘴的液體供給管與連接到所述第二液體釋放噴嘴的液體供給管之間的配管錯誤的信息。

6.如權利要求1～5中任一項所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述釋放位置偏移信息包含關于來自所述第一液體釋放噴嘴的所述液體的釋放方向的偏移的信息。

7.如權利要求1～6中任一項所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述第一溫度信息和所述第二溫度信息分別包含溫度經時變化信息，所述溫度經時變化信息是基于自所述基片的所述表面的邊緣起的所述第一液體釋放噴嘴的移動時間和由所述溫度測量部測量出的所述點溫度而確定的，

所述控制部通過比較所述第一溫度信息的所述溫度經時變化信息中的與閾值溫度相關聯的所述移動時間，和所述第二溫度信息的所述溫度經時變化信息中的與所述閾值溫度相關聯的所述移動時間，來導出所述釋放位置偏移信息。

8.如權利要求7所述的基片液處理裝置，其特征在于：

所述閾值溫度是基于有關所述第一溫度信息的所述溫度經時變化信息的、所述點溫度的關于所述移動時間的微分系數，和有關所述第二溫度信息的所述溫度經時變化信息的、所述點溫度的關于所述移動時間的微分系數而確定的。