[發明專利]天線段和電感耦合等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202110180584.5
• 申請日: 2021-02-08
• 公開（公告）號: CN113301701A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發明（設計）人: 齊藤均;東條利洋
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46;H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種天線段，其通過呈筒狀卷繞天線線材而形成，由所述天線線材的局部形成第1平面，其中，

該天線段包括：

第1天線線材，其位于卷繞軸線方向上的一側且至少局部形成所述第1平面；以及

第2天線線材，其位于所述卷繞軸線方向上的另一側且形成所述第1平面，

所述第1天線線材具有：

平面上天線部，其形成所述第1平面；

層疊天線部，其與所述第2天線線材分離開地配置于該第2天線線材上方；以及

連結部，其連接所述平面上天線部和所述層疊天線部。

2.根據權利要求1所述的天線段，其中，

流過所述層疊天線部的電流向與流過所述第2天線線材的電流相同的方向流動。

3.根據權利要求1或2所述的天線段，其中，

所述卷繞軸線方向上的一側的第1端部形成為呈凹狀彎折，

所述卷繞軸線方向上的另一側的第2端部形成為呈凸狀彎折。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的天線段，其中，

構成所述層疊天線部的天線線材的匝數為形成所述第1平面的天線線材的全部匝數的一半以下。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的天線段，其中，

自所述第2天線線材的上端到所述層疊天線部的下端的間隔為10mm以上且30mm以下。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的天線段，其中，

在與所述第1平面相對的位置，由所述天線線材的另一局部形成第2平面。

7.一種電感耦合等離子體處理裝置，該電感耦合等離子體處理裝置包括：上部壁，其構成處理容器；載置臺，其位于所述處理容器內且與所述上部壁相對；以及天線單元，其配置于所述上部壁的上方，該電感耦合等離子體處理裝置對載置于所述載置臺上的基板進行處理，其中，

所述天線單元通過如下方式形成：

將呈筒狀卷繞天線線材而形成并由所述天線線材的局部形成第1平面的天線段以所述第1平面形成邊框狀區域的方式排列，

所述天線單元具有角部天線段，該角部天線段為多個所述天線段中的構成所述邊框狀區域的角部的天線段，

所述角部天線段包括：

第1天線線材，其位于卷繞軸線方向上的一側且至少局部形成所述第1平面；以及

第2天線線材，其位于所述卷繞軸線方向上的另一側且形成所述第1平面，

所述第1天線線材具有：

平面上天線部，其形成所述第1平面；

層疊天線部，其與所述第2天線線材分離開地配置于該第2天線線材的上方；以及

連結部，其連接所述平面上天線部和所述層疊天線部。