[發(fā)明專利]顯示面板中絕緣層的修補結(jié)構及修補方法

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• 申請日: 2021-02-09
• 公開（公告）號: CN112992935A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設計）人: 陳仲仁
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77;H01L21/768
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權代理有限公司 44570
• 代理人: 遠明

1.一種顯示面板中絕緣層的修補結(jié)構，其特征在于，包括：

第一金屬層，設置于陣列基板上；

半導體層，設置于所述第一金屬層上；

第二金屬層，設置于所述半導體層上；

絕緣層，設置于所述第二金屬層上，且所述絕緣層中具有一通孔，所述通孔穿透所述絕緣層延伸至所述第二金屬層；

修補層，填充入所述通孔中，所述修補層由絕緣材料制成。

2.如權利要求1所述的絕緣層的修補結(jié)構，其特征在于，所述絕緣材料為亞克力材料、光阻材料、色阻材料、間隙控制材料和硅合成物中的一種或多種。

3.如權利要求1所述的顯示面板中絕緣層的修補結(jié)構，其特征在于，所述絕緣層包括位于所述顯示面板的顯示區(qū)的絕緣層，以及位于所述顯示面板的非顯示區(qū)的絕緣層。

4.如權利要求1所述的顯示面板中絕緣層的修補結(jié)構，其特征在于，所述修補層的表面與所述第二金屬層的表面平齊。

5.如權利要求1-4任一項所述的顯示面板中絕緣層的修補結(jié)構，其特征在于，所述第一金屬層包括掃描線和薄膜晶體管的柵極，所述第二金屬層包括數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管的源極以及薄膜晶體管的漏極。

6.一種顯示面板中絕緣層的修補方法，其特征在于，包括：

在陣列基板上形成第一金屬層；

在所述第一金屬層上形成半導體層；

在所述半導體層上形成第二金屬層；

在所述第二金屬層上形成絕緣層；

當所述絕緣層中產(chǎn)生通孔且所述通孔穿透所述絕緣層延伸至所述第二金屬層時，對所述通孔進行填充以形成修補層，所述修補層由絕緣材料制成。

7.如權利要求6所述的顯示面板中絕緣層的修補方法，其特征在于，采用化學氣相沉積、物理氣相沉積或噴墨的方式對所述通孔進行填充。

8.如權利要求6所述的顯示面板中絕緣層的修補方法，其特征在于，通過自動光學檢測檢測所述顯示面板，以確定所述通孔的位置和/或大小。

9.如權利要求6所述的顯示面板中絕緣層的修補方法，其特征在于，采用缺陷填充設備對所述通孔進行填充。

10.如權利要求6-9任一項所述的顯示面板中絕緣層的修補方法，其特征在于，所述修補方法還包括：填充所述通孔形成所述修補層后，對所述修補層進行平坦化操作。