[發(fā)明專利]單晶小硅塊拼接切割用的UV膠膜及制備方法和應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110174558.1
• 申請日: 2021-02-09
• 公開（公告）號: CN112920751B
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄧舜;吳凱
• 申請（專利權(quán)）人: 常州時創(chuàng)能源股份有限公司
• 主分類號: C09J163/10
• 分類號: C09J163/10;C09J133/08;C09J7/30;C09J7/10;B28D5/00
• 代理公司: 暫無信息
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1.一種單晶小硅塊拼接切割用的UV膠膜的應(yīng)用，用于單晶小硅塊的拼接切割工藝，其特征在于：所述UV膠膜包括由UV樹脂形成的UV樹脂層和分別粘貼在UV樹脂層兩側(cè)的離型層，所述UV樹脂由以下質(zhì)量份數(shù)的原料配制而成：30~45質(zhì)量份的基材定型膠，20~50質(zhì)量份的改性UV光固化樹脂，0.5~1質(zhì)量份的光引發(fā)劑，5~10質(zhì)量份的溶劑；

所述UV膠膜的應(yīng)用包括：首先將至少兩個單晶小硅塊沿厚度方向拼接成大硅塊；其次將所述UV膠膜粘貼于相鄰兩個單晶小硅塊之間的拼接縫及邊緣，實現(xiàn)無縫保護；再將大硅塊貼有所述UV膠膜的一面用環(huán)氧膠水粘貼到工件板上，固化后對大硅塊進行分線網(wǎng)切割，獲得硅片及位于拼接縫兩側(cè)的厚片。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：所述光引發(fā)劑選自2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羥基環(huán)己基苯基甲酮和2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：所述溶劑選自甲苯、二甲苯、乙酸乙酯和丙酮中的一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：所述UV膠膜的厚度為20~100μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：所述UV膠膜的制備方法，包括以下步驟：

（1）制備UV樹脂：將30~45質(zhì)量份的基材定型膠，20~50質(zhì)量份的改性UV光固化樹脂和0.5~1質(zhì)量份的光引發(fā)劑混合，加入溶劑，調(diào)節(jié)粘度為2500~4500mPa·s，得UV樹脂；

（2）在離型層的一側(cè)涂布一層UV樹脂形成UV樹脂層，之后在所述UV樹脂層的表面再覆一層離型層，烘干得UV膠膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：步驟（1）中，所述基材定型膠的制備方法如下：

將3mL苯乙烯、25mL丙烯酸異辛酯、15mL丙烯酸丁酯、15mL甲基丙烯酸甲酯、8mL醋酸乙烯酯、30mL甲苯、30mL二甲苯和30mL乙酸乙酯混合攪拌，滴加1.5mL BPO引發(fā)劑，80℃保溫攪拌30min得混合液Ⅰ；

將1mL苯乙烯、4mL丙烯酸異辛酯、6mL丙烯酸丁酯、4mL甲基丙烯酸甲酯、和3mL醋酸乙烯酯混合得混合液Ⅱ；

將混合液Ⅱ滴加至混合液Ⅰ，80℃保溫攪拌30min；

繼續(xù)滴加1.0mL BPO引發(fā)劑，80℃保溫攪拌30min，得混合液Ⅲ；

將15mL二甲苯、15mL甲苯和20mL乙酸乙酯混合液混合攪拌得混合液Ⅳ，將混合液Ⅳ以及4g萜烯樹脂加入到混合液Ⅲ中，80℃保溫攪拌2h，冷卻過濾得基材定型膠。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的UV膠膜的應(yīng)用，其特征在于：步驟（1）中，所述改性UV光固化樹脂的制備方法如下：

將40g對苯二酚、100mL丙烯酸和3g四丁基溴化銨混合溶解，得混合液A；

取200g環(huán)氧樹脂E51溶液，90℃回流脫水30min，持續(xù)攪拌下滴加混合液A，110℃恒溫反應(yīng)4h，測量酸值低于8mgKOH/g，降溫至80℃并加入50mL苯乙烯進行稀釋，得改性UV光固化樹脂。