[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體晶圓清洗的烘干裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110173400.2 | 申請日: | 2021-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN112992734B | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 錢誠;李剛;李濤;朱震 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇亞電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京商專潤文專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11317 | 代理人: | 陳平 |
| 地址: | 225500 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 半導(dǎo)體 清洗 烘干 裝置 | ||
本發(fā)明公開了用于半導(dǎo)體晶圓清洗的烘干裝置,包括烘干箱,所述烘干箱主要由支撐腿、底板、外殼、頂板、防塵罩、密封門組成,所述支撐腿頂部通過螺栓連接有所述底板,所述底板頂部外側(cè)通過螺栓連接有所述外殼,所述外殼頂部通過螺栓連接有所述頂板,還包括烘干機(jī)構(gòu)、放料機(jī)構(gòu)。本發(fā)明可以通過熱氣流吹向晶圓上方中央和下方中央,此時(shí)晶圓表面的水從中間向外流動,使得水分滴落,隨后殘余的水分被蒸發(fā)干燥,這樣設(shè)置有益于提高干燥效率;還可以通過聯(lián)動機(jī)構(gòu)帶動所有的轉(zhuǎn)動桿轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)動桿帶動放料架轉(zhuǎn)動,進(jìn)而使得放料架上的晶圓交替的對準(zhǔn)熱氣流,這樣設(shè)置有益于增加放料架上放置的晶圓數(shù)量,有益于增加干燥晶圓的數(shù)量,因此有益于提高生產(chǎn)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓烘干技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及用于半導(dǎo)體晶圓清洗的烘干裝置。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體的制造過程中,需要圖形轉(zhuǎn)移工藝,其中包括光刻工藝。光刻工藝是一種圖形復(fù)印技術(shù),是半導(dǎo)體制造工藝中一項(xiàng)關(guān)鍵的技術(shù)。簡單來說,光刻受到照相技術(shù)的啟發(fā),利用光刻膠感光特性,將光刻掩膜板的圖形精確地復(fù)印到涂在晶圓上的光刻膠上。在將光刻膠旋涂到晶圓之前,因?yàn)榫A表面進(jìn)行清洗,所以需要對晶圓表面進(jìn)行烘干。
公開號為CN109663723A的中國專利公開了體公開了一種晶圓用烘干裝置,包括烘干箱,烘干箱內(nèi)設(shè)有濕度傳感器、驅(qū)動機(jī)構(gòu)和放置機(jī)構(gòu),放置機(jī)構(gòu)包括多個放置單元,驅(qū)動機(jī)構(gòu)的下方設(shè)有可間歇撥動放置單元移動的撥動組件,撥動組件由濕度傳感器控制。但是該裝置存在以下缺點(diǎn):1、利用晶圓轉(zhuǎn)動不斷的攪動烘干箱內(nèi)的熱氣,使得氣流紊亂,但是晶圓還需要平穩(wěn)運(yùn)動,因此氣流的流動速度受到限制,影響烘干效率;2、晶圓需要放置在支撐板上,因此晶圓下表面與支撐板接觸,無法對晶圓下表面進(jìn)行烘干處理,需要對晶圓進(jìn)行翻面才能對晶圓徹底烘干。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就在于為了解決上述問題而提供用于半導(dǎo)體晶圓清洗的烘干裝置。
本發(fā)明通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:
用于半導(dǎo)體晶圓清洗的烘干裝置,包括烘干箱,所述烘干箱主要由支撐腿、底板、外殼、頂板、防塵罩、密封門組成,所述支撐腿頂部通過螺栓連接有所述底板,所述底板頂部外側(cè)通過螺栓連接有所述外殼,所述外殼頂部通過螺栓連接有所述頂板,所述頂板頂部開設(shè)有排氣孔,且排氣孔內(nèi)側(cè)螺接有所述防塵罩,所述外殼前端通過合頁連接有所述密封門,還包括烘干機(jī)構(gòu)、放料機(jī)構(gòu),所述外殼內(nèi)部中央設(shè)置有烘干機(jī)構(gòu),所述烘干機(jī)構(gòu)外側(cè)設(shè)置有所述放料機(jī)構(gòu),所述放料機(jī)構(gòu)包括上行星架、放料架組、下行星架,所述上行星架底部外側(cè)通過軸承連接有若干個所述放料架組,所述放料架組下端穿過所述下行星架,并與所述下行星架通過軸承連接,且連接有驅(qū)動其轉(zhuǎn)動的聯(lián)動機(jī)構(gòu),所述放料架組包括轉(zhuǎn)動桿、放料架,所述轉(zhuǎn)動桿周側(cè)通過螺釘連接有若干個等距離設(shè)置的所述放料架,所述烘干機(jī)構(gòu)包括風(fēng)機(jī)、中心管、連通管、出風(fēng)管、加熱絲、支撐網(wǎng)孔管、濾清器,所述風(fēng)機(jī)的進(jìn)氣端通過喉箍連接有所述濾清器,所述風(fēng)機(jī)通過螺栓連接在所述頂板頂部中央,所述風(fēng)機(jī)下方通過螺釘連接有所述中心管,所述中心管穿過所述頂板和所述上行星架,并與所述上行星架通過軸承連接,且位于所述上行星架下方部分的周側(cè)焊接有若干組所述連通管,每組設(shè)置有若干個所述連通管,所述連通管遠(yuǎn)離所述中心管的一端焊接有豎直設(shè)置的所述出風(fēng)管,且所述出風(fēng)管通過所述連通管與所述中心管連通,所述中心管內(nèi)部通過螺釘連接有所述加熱絲,所述加熱絲內(nèi)側(cè)設(shè)置有用于支撐所述加熱絲的所述支撐網(wǎng)孔管,可以通過風(fēng)機(jī)產(chǎn)生氣流,氣流經(jīng)過加熱絲的加熱成為熱氣流,熱氣流經(jīng)過中心管、連通管以及出風(fēng)管吹向晶圓上方中央和下方中央,此時(shí)晶圓表面的水從中間向外流動,使得水分滴落,隨后殘余的水分被蒸發(fā)干燥,這樣設(shè)置有益于提高干燥效率,還可以通過聯(lián)動機(jī)構(gòu)帶動所有的轉(zhuǎn)動桿轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)動桿帶動放料架轉(zhuǎn)動,進(jìn)而使得放料架上的晶圓交替的對準(zhǔn)熱氣流,這樣設(shè)置有益于增加放料架上放置的晶圓數(shù)量,有益于增加干燥晶圓的數(shù)量,因此有益于提高生產(chǎn)效率。
優(yōu)選的,所述連通管的組數(shù)與所述放料架組的數(shù)量相同,且位置相對應(yīng),這樣設(shè)置使得每個放料架組上的晶圓均能被干燥。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇亞電科技有限公司,未經(jīng)江蘇亞電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110173400.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





