[發(fā)明專利]導(dǎo)電組件及測(cè)試裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110169573.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-02-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112881896A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 荀露 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 荀露 |
| 主分類號(hào): | G01R31/28 | 分類號(hào): | G01R31/28;G01R1/04 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 組件 測(cè)試 裝置 | ||
1.一種導(dǎo)電組件,其特征在于,所述導(dǎo)電組件用于測(cè)試裝置中將測(cè)試用電路板和被測(cè)產(chǎn)品電性連接,所述導(dǎo)電組件包括彈性導(dǎo)電體和保護(hù)板,所述彈性導(dǎo)電體包括彈性絕緣板體及分布在所述彈性絕緣板體內(nèi)的若干導(dǎo)電顆粒,在正常情況下彈性導(dǎo)電體上下方向和左右方向都不導(dǎo)通,當(dāng)彈性導(dǎo)電體在上下方向受壓力時(shí),在受壓部位的上下方向?qū)ǎ凰霰Wo(hù)板設(shè)于所述彈性導(dǎo)電體上,所述保護(hù)板包括絕緣本體及設(shè)置在所述絕緣本體上的多個(gè)導(dǎo)電柱,所述導(dǎo)電柱貫穿所述絕緣本體,所述導(dǎo)電柱的下端凸出于所述絕緣本體的下表面形成第一凸柱,所述第一凸柱用于測(cè)試裝置在測(cè)試時(shí)下壓所述彈性導(dǎo)電體使所述彈性導(dǎo)電體在受壓位置上下導(dǎo)通,以將測(cè)試用電路板和被測(cè)產(chǎn)品電性連接。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電組件,其特征在于,所述導(dǎo)電柱的上端凸出于所述絕緣本體的上表面形成第二凸柱,所述第二凸柱用于與被測(cè)產(chǎn)品的測(cè)試引腳接觸。
3.如權(quán)利要求2所述的導(dǎo)電組件,其特征在于,所述保護(hù)板為柔性電路板,所述第一凸柱為形成在所述柔性電路板的下表面的下焊盤(pán),所述第二凸柱為形成在所述柔性電路板上表面并與對(duì)應(yīng)的下焊盤(pán)導(dǎo)通的上焊盤(pán)。
4.如權(quán)利要求2所述的導(dǎo)電組件,其特征在于,所述第一凸柱的分布位置與測(cè)試用電路板上用于測(cè)試的焊盤(pán)的位置相對(duì)應(yīng),所述第二凸柱的分布位置與被測(cè)產(chǎn)品的測(cè)試引腳的位置相對(duì)應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電組件,其特征在于,所述保護(hù)板為柔性電路板。
6.一種測(cè)試裝置,其特征在于,所述測(cè)試裝置包括底框、測(cè)試用電路板、壓頭組件及導(dǎo)電組件,所述底框上設(shè)有用于置放被測(cè)產(chǎn)品的容置部,所述測(cè)試用電路板安裝在所述底框上并位于所述容置部的下側(cè),所述導(dǎo)電組件位于所述容置部和測(cè)試用電路板之間,所述壓頭組件用于在測(cè)試時(shí)下壓所述被測(cè)產(chǎn)品,所述導(dǎo)電組件包括彈性導(dǎo)電體和保護(hù)板,所述彈性導(dǎo)電體包括彈性絕緣板體及分布在所述彈性絕緣板體內(nèi)的若干導(dǎo)電顆粒,在正常情況下彈性導(dǎo)電體上下方向和左右方向都不導(dǎo)通,當(dāng)彈性導(dǎo)電體在上下方向受壓力時(shí),在受壓部位的上下方向?qū)ǎ凰霰Wo(hù)板設(shè)于所述彈性導(dǎo)電體上,所述保護(hù)板包括絕緣本體及設(shè)置在所述絕緣本體上的多個(gè)導(dǎo)電柱,所述導(dǎo)電柱貫穿所述絕緣本體,所述導(dǎo)電柱的下端凸出于所述絕緣本體的下表面形成第一凸柱,所述第一凸柱用于測(cè)試裝置在測(cè)試時(shí)下壓所述彈性導(dǎo)電體使所述彈性導(dǎo)電體在受壓位置上下導(dǎo)通,以將被測(cè)產(chǎn)品上的測(cè)試引腳與測(cè)試用電路板上對(duì)應(yīng)的焊盤(pán)電性連接。
7.如權(quán)利要求6所述的測(cè)試裝置,其特征在于,所述導(dǎo)電柱的上端凸出于所述絕緣本體的上表面形成第二凸柱,所述第二凸柱用于與被測(cè)產(chǎn)品的測(cè)試引腳接觸。
8.如權(quán)利要求7所述的測(cè)試裝置,其特征在于,所述保護(hù)板為柔性電路板,所述第一凸柱為形成在所述柔性電路板的下表面的下焊盤(pán),所述第二凸柱為形成在所述柔性電路板上表面并與對(duì)應(yīng)的下焊盤(pán)導(dǎo)通的上焊盤(pán)。
9.如權(quán)利要求7所述的測(cè)試裝置,其特征在于,所述第一凸柱的分布位置與測(cè)試用電路板上用于測(cè)試的焊盤(pán)的位置相對(duì)應(yīng),所述第二凸柱的分布位置與被測(cè)產(chǎn)品的測(cè)試引腳的位置相對(duì)應(yīng)。
10.如權(quán)利要求6所述的測(cè)試裝置,其特征在于,所述保護(hù)板為柔性電路板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于荀露,未經(jīng)荀露許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110169573.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過(guò)端—不過(guò)端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過(guò)測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
G01R31-24 .放電管的測(cè)試
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 導(dǎo)電糊劑及導(dǎo)電圖案
- 導(dǎo)電圖案的形成方法、導(dǎo)電膜、導(dǎo)電圖案及透明導(dǎo)電膜
- 導(dǎo)電片和導(dǎo)電圖案
- 導(dǎo)電漿料和導(dǎo)電膜
- 導(dǎo)電端子及導(dǎo)電端子的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)
- 導(dǎo)電構(gòu)件及使用多個(gè)導(dǎo)電構(gòu)件的導(dǎo)電電路
- 導(dǎo)電型材和導(dǎo)電裝置
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 軟件測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法
- 自動(dòng)化測(cè)試方法和裝置
- 一種應(yīng)用于視頻點(diǎn)播系統(tǒng)的測(cè)試裝置及測(cè)試方法
- Android設(shè)備的測(cè)試方法及系統(tǒng)
- 一種工廠測(cè)試方法、系統(tǒng)、測(cè)試終端及被測(cè)試終端
- 一種軟件測(cè)試的方法、裝置及電子設(shè)備
- 測(cè)試方法、測(cè)試裝置、測(cè)試設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 測(cè)試裝置及測(cè)試系統(tǒng)
- 測(cè)試方法及測(cè)試系統(tǒng)
- 一種數(shù)控切削指令運(yùn)行軟件測(cè)試系統(tǒng)及方法





