[發明專利]一種清潔方法、裝置和計算機存儲介質有效
| 申請號: | 202110169002.3 | 申請日: | 2021-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN112971645B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發明(設計)人: | 何博;范澤宣 | 申請(專利權)人: | 美智縱橫科技有限責任公司 |
| 主分類號: | A47L11/40 | 分類號: | A47L11/40;A47L11/24;G05D1/02 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 董超男;張穎玲 |
| 地址: | 215131 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 清潔 方法 裝置 計算機 存儲 介質 | ||
1.一種清潔方法,其特征在于,應用于清潔設備,所述方法包括:
獲取待清掃區域,所述待清掃區域包括:第一未清掃區域;
根據所述待清掃區域,確定清掃區間集,包括:
將所述第一未清掃區域劃分為第一區間和第二區間;所述第一區間表征清潔設備從基站移動到任意區域所必經的區間;所述第二區間為清潔設備從基站移動到任意區域非必經的區間;所述第二區間的清潔次序優先于所述第一區間的清潔次序;
確定包括所述第一區間和所述第二區間的所述清掃區間集;所述清掃區間集包括:至少一個清掃區間和所述至少一個清掃區間中每個所述清掃區間對應的清潔次序;每個所述清掃區間的清潔次序與每個所述清掃區間的清掃行徑相關;
按照每個所述清掃區間對應的清潔次序,依次清掃每個所述清掃區間。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述待清掃區域,確定清掃區間集,包括:
查詢預設的清掃區間表,確定所述待清掃區域對應的清掃區間集;
其中,所述預設的清掃區間表包括:至少一個已保存清掃區域和所述至少一個已保存清掃區域中每個所述已保存清掃區域對應的清掃區間集。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根據所述待清掃區域,確定清掃區間集,還包括:
確定與所述第一未清掃區域相鄰的第二未清掃區域,將所述第二未清掃區域劃分為第五區間和第六區間;所述第五區間表征清潔設備從基站移動到第二其他未清掃區域所必經的區間;所述第六區間為清潔設備從基站移動到第二其他未清掃區域非必經的區間;所述第二其他未清掃區域為所述待清掃區域中除所述第一未清掃區域、第二未清掃區域外的其他區域;
確定與所述第二未清掃區域相鄰的第三未清掃區域,對所述第三未清掃區域的區間進行劃分,直至將每個其他未清掃區域劃分得到各區間;
根據所述第二未清掃區域對應的第五區間和第六區間、及其他未清掃區域對應的區間,確定所述清掃區間集。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述待清掃區域,確定清掃區間集,包括:
獲取待清掃區域的地圖;所述待清掃區域的地圖至少包括:基站;
根據所述待清掃區域的地圖,對所述待清掃區域進行劃分,得到至少一個待清掃區間;
確定從所述基站到每個所述待清掃區間的清掃行徑;
根據所述至少一個待清掃區間和每個所述待清掃區間對應的清掃行徑,確定每個所述待清掃區間對應的非必經區間;
基于每個所述待清掃區間對應的非必經區間,對所述至少一個待清掃區間進行清潔次序的排序,得到所述清掃區間集。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述按照每個所述清掃區間對應的清潔次序,依次清掃每個所述清掃區間,包括:
清潔過程中,確定自身需要返回基站時,記錄當前所清潔的清掃區間,作為目標清掃區間;
充電完成后,返回所述目標清掃區間,繼續按照清潔次序進行清潔。
6.一種清潔裝置,其特征在于,應用于清潔設備,所述裝置包括:第一處理模塊、第二處理模塊和第三處理模塊;其中,
所述第一處理模塊,用于獲取待清掃區域,所述待清掃區域包括:第一未清掃區域;
所述第二處理模塊,用于根據所述待清掃區域,確定清掃區間集,包括:
將所述第一未清掃區域劃分為第一區間和第二區間;所述第一區間表征清潔設備從基站移動到任意區域所必經的區間;所述第二區間為清潔設備從基站移動到任意區域非必經的區間;所述第二區間的清潔次序優先于所述第一區間的清潔次序;
確定包括所述第一區間和所述第二區間的所述清掃區間集;所述清掃區間集包括:至少一個清掃區間和所述至少一個清掃區間中每個所述清掃區間對應的清潔次序;每個所述清掃區間的清潔次序與每個所述清掃區間的清掃行徑相關;
所述第三處理模塊,用于按照每個所述清掃區間對應的清潔次序,依次清掃每個所述清掃區間。
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