[發(fā)明專(zhuān)利]一種晶圓往復(fù)循環(huán)清洗設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110160903.6
• 申請(qǐng)日: 2021-02-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112992731A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周志剛;王靜強(qiáng);徐福興;黃錫欽;陳亮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山基侑電子科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓往復(fù)循環(huán)清洗設(shè)備，包括清洗室、清洗組件、第一輸送組件和第二輸送組件，清洗室內(nèi)部設(shè)置有上清洗室和下清洗室，上清洗室的側(cè)部設(shè)置有第一進(jìn)口，下清洗室的側(cè)部設(shè)置有第二進(jìn)口，第一輸送組件包括兩條第一伺服直線模組和第一輸送網(wǎng)板，兩條第一伺服直線模組從第一進(jìn)口穿過(guò)并于上清洗室的相對(duì)兩側(cè)內(nèi)壁設(shè)置，第一輸送網(wǎng)板與兩條第一伺服直線模組連接，且上清洗室的下部設(shè)置有第一接水箱，第二輸送組件包括兩條第二伺服直線模組和第二輸送網(wǎng)板，兩條第二伺服直線模組從第二進(jìn)口穿過(guò)并于上清洗室的相對(duì)兩側(cè)內(nèi)壁設(shè)置，本發(fā)明能對(duì)較多的晶圓片進(jìn)行同時(shí)清洗，并且方便操作人員進(jìn)行連續(xù)上料，清洗效率較高，且清洗效果較佳。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓往復(fù)循環(huán)清洗設(shè)備。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體器件集成度的不斷提高，金屬互連技術(shù)已廣泛應(yīng)用在超大規(guī)模集成電路中。金屬互連結(jié)構(gòu)的形成過(guò)程簡(jiǎn)述如下：首先，在晶圓的介質(zhì)層上形成通孔；然后，沉積金屬層，金屬層填滿通孔并覆蓋在介質(zhì)層的整個(gè)表面上；最后，采用化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)將介質(zhì)層表面的金屬層研磨去除，僅保留通孔內(nèi)的金屬，從而形成金屬互連結(jié)構(gòu)。根據(jù)不同的工藝需求，金屬可以選用銅、鎢等。

CMP工藝結(jié)束后，通常還要對(duì)介質(zhì)層表面進(jìn)行清洗，目的是將研磨過(guò)程中殘留在介質(zhì)層表面的顆粒清洗去除，防止這些顆粒結(jié)晶在介質(zhì)層表面而難以去除。

但是現(xiàn)有技術(shù)中的清洗設(shè)備每次只能對(duì)單個(gè)晶圓進(jìn)行清洗，效率相對(duì)較慢，降低了企業(yè)的生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明目的：為了解決背景技術(shù)中存在的不足，所以本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓往復(fù)循環(huán)清洗設(shè)備。

技術(shù)方案：一種晶圓往復(fù)循環(huán)清洗設(shè)備，包括清洗室、清洗組件、第一輸送組件和第二輸送組件，所述清洗室內(nèi)部設(shè)置有上清洗室和下清洗室，所述上清洗室的側(cè)部設(shè)置有第一進(jìn)口，所述下清洗室的側(cè)部設(shè)置有第二進(jìn)口，所述第一輸送組件包括兩條第一伺服直線模組和第一輸送網(wǎng)板，所述兩條第一伺服直線模組從第一進(jìn)口穿過(guò)并于上清洗室的相對(duì)兩側(cè)內(nèi)壁設(shè)置，所述第一輸送網(wǎng)板與兩條第一伺服直線模組連接，且所述上清洗室的下部設(shè)置有第一接水箱，所述第二輸送組件包括兩條第二伺服直線模組和第二輸送網(wǎng)板，所述兩條第二伺服直線模組從第二進(jìn)口穿過(guò)并于上清洗室的相對(duì)兩側(cè)內(nèi)壁設(shè)置，所述第二輸送網(wǎng)板與兩條第二伺服直線模組連接，且所述上清洗室的下部設(shè)置有第二接水箱，所述第一輸送網(wǎng)板上方和第二輸送網(wǎng)板的上方設(shè)置有數(shù)組定位柱，所述清洗組件包括第一高壓清洗裝置和第二高壓清洗裝置，所述第一高壓清洗裝置設(shè)置在上清洗室的頂部，所述第二高壓清洗裝置設(shè)置在下清洗室的頂部。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述上清洗室和下清洗室是由間層隔板隔開(kāi)。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一進(jìn)口和第二進(jìn)口為同側(cè)設(shè)置。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一接水箱和第二接水箱的底部通過(guò)分歧管路外接有排水泵。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，所述第一高壓清洗裝置和第二高壓清洗裝置均外接有清洗液存儲(chǔ)箱，且所述第一高壓清洗裝置和第二高壓清洗裝置均包括有數(shù)個(gè)高壓噴頭。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方式，每組所述定位柱的數(shù)量均為四個(gè)。

本發(fā)明實(shí)現(xiàn)以下有益效果：

本發(fā)明能對(duì)較多的晶圓片進(jìn)行同時(shí)清洗，并且方便操作人員進(jìn)行連續(xù)上料，清洗效率較高，且清洗效果較佳。

附圖說(shuō)明

此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分，示出了符合本公開(kāi)的實(shí)施例，并于說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本公開(kāi)的原理。

圖1為本發(fā)明公開(kāi)的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明公開(kāi)的第一輸送網(wǎng)板結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式