[發明專利]緊縮場天線測量系統、構建其的方法、裝置及電子設備

有效

• 申請號: 202110156127.2
• 申請日: 2021-02-04
• 公開（公告）號: CN112834829B
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 俞俊生;姚遠;于海洋;陳天洋;陳曉東;陳雨晴;李峙;張亮
• 申請（專利權）人: 北京郵電大學
• 主分類號: G01R29/10
• 分類號: G01R29/10
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 丁蕓;馬敬

本公開實施例提供了一種緊縮場天線測量系統、構建其的方法、裝置及電子設備。緊縮場天線測量系統包括饋源、主反射鏡、第一賦形副反射鏡和第二賦形副反射鏡，其中：第一賦形副反射鏡用于將饋源發出的電磁波反射至第二賦形副反射鏡；第二賦形副反射鏡用于將第一賦形副反射鏡反射的電磁波反射至主反射鏡；主反射鏡用于將第二賦形副反射鏡反射的電磁波反射為平面電磁波，平面電磁波形成系統出射場；且，第一賦形副反射鏡和/或第二賦形副反射鏡的鏡面為基于B樣條獲得的曲面鏡面。

技術領域

本公開涉及電子技術領域，特別是涉及一種緊縮場天線測量系統、構建其的方法、裝置及電子設備。

背景技術

為了保證毫米波與亞毫米波太赫茲系統的工作質量，必須對其進行精確的測量。但測量毫米波與亞毫米波太赫茲頻段的天線系統是一個普遍性的難題。目前，最優的解決方案是使用緊縮場天線測量系統進行天線測試，其中三反射鏡緊縮場天線測量系統具有主反射鏡口徑利用率高、工作頻帶寬、制造成本低等優點。

如何進一步提高天線測量系統的口徑利用率，是目前亟待解決的技術問題。

發明內容

本公開實施例的目的在于提供一種緊縮場天線測量系統、構建其的方法、裝置及電子設備，以提高口徑利用率。具體技術方案如下：

根據本公開實施例的一個方面，提供一種緊縮場天線測量系統，包括饋源、主反射鏡、第一賦形副反射鏡和第二賦形副反射鏡，其中：

所述第一賦形副反射鏡用于將所述饋源發出的電磁波反射至所述第二賦形副反射鏡；

所述第二賦形副反射鏡用于將所述第一賦形副反射鏡反射的電磁波反射至所述主反射鏡；

所述主反射鏡用于將所述第二賦形副反射鏡反射的電磁波反射為平面電磁波，所述平面電磁波形成系統出射場；

且，所述第一賦形副反射鏡和/或所述第二賦形副反射鏡的鏡面為基于B樣條獲得的曲面鏡面。

在一些實施例中，所述饋源相位中心、所述第一賦形副反射鏡、所述第二賦形副反射鏡以及所述主反射鏡的中心反射點位置滿足以下函數關系式：

2f＝r₁+r₂+r₃+r₄

x₁＝0

式中，f表示所述主反射鏡的焦距，r₁表示所述饋源相位中心與所述第一賦形副反射鏡中心反射點之間的距離，r₂表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點與所述第二賦形副反射鏡中心反射點之間的距離，r₃表示所述第二賦形副反射鏡中心反射點與所述主反射鏡中心反射點之間的距離，r₄表示所述主反射鏡中心反射點與所述系統出射場口徑中心之間的距離，A表示所述主反射鏡的焦點的z軸坐標值，與所述主反射鏡的焦距之間的比值，z₃表示所述主反射鏡中心反射點的z軸坐標值，x₃表示所述主反射鏡中心反射點的x軸坐標值，x₁表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點的x軸坐標值。

在一些實施例中，所述第一賦形副反射鏡與所述第二賦形副反射鏡之間的電磁波傳播光路為格里高利反射形式傳播光路，所述第二賦形副反射鏡與所述主反射鏡之間的電磁波傳播光路為卡塞格倫反射形式傳播光路。

根據本公開的另一個方面，提供一種構建前述任一技術方案所述的緊縮場天線測量系統的方法，包括：

根據饋源相位中心、第一賦形副反射鏡、第二賦形副反射鏡以及主反射鏡的中心反射點位置，確定第一賦形副反射鏡中心反射點的法向量，以及計算第二賦形副反射鏡中心反射點的法向量；