[發(fā)明專利]緊縮場天線測量系統(tǒng)、構(gòu)建其的方法、裝置及電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110156127.2 | 申請(qǐng)日： | 2021-02-04 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112834829B | 公開（公告）日： | 2021-12-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 俞俊生;姚遠(yuǎn);于海洋;陳天洋;陳曉東;陳雨晴;李峙;張亮 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01R29/10 | 分類號(hào)： | G01R29/10 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 丁蕓;馬敬 |
| 地址： | 100876 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 緊縮 天線 測量 系統(tǒng) 構(gòu)建 方法 裝置 電子設(shè)備 | ||
1.一種緊縮場天線測量系統(tǒng)，其特征在于，包括饋源、主反射鏡、第一賦形副反射鏡和第二賦形副反射鏡，其中：
所述第一賦形副反射鏡用于將所述饋源發(fā)出的電磁波反射至所述第二賦形副反射鏡；
所述第二賦形副反射鏡用于將所述第一賦形副反射鏡反射的電磁波反射至所述主反射鏡；
所述主反射鏡用于將所述第二賦形副反射鏡反射的電磁波反射為平面電磁波，所述平面電磁波形成系統(tǒng)出射場；
且，所述第一賦形副反射鏡和/或所述第二賦形副反射鏡的鏡面為基于B樣條獲得的曲面鏡面；
所述饋源相位中心、所述第一賦形副反射鏡、所述第二賦形副反射鏡以及所述主反射鏡的中心反射點(diǎn)位置滿足以下函數(shù)關(guān)系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
x1＝0
式中，f表示所述主反射鏡的焦距，r1表示所述饋源相位中心與所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r2表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)與所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r3表示所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)與所述主反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r4表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)與所述系統(tǒng)出射場口徑中心之間的距離，A表示所述主反射鏡的焦點(diǎn)的z軸坐標(biāo)值，與所述主反射鏡的焦距之間的比值，z3表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)的z軸坐標(biāo)值，x3表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)的x軸坐標(biāo)值，x1表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的x軸坐標(biāo)值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的緊縮場天線測量系統(tǒng)，其特征在于，所述第一賦形副反射鏡與所述第二賦形副反射鏡之間的電磁波傳播光路為格里高利反射形式傳播光路，所述第二賦形副反射鏡與所述主反射鏡之間的電磁波傳播光路為卡塞格倫反射形式傳播光路。
3.一種構(gòu)建如權(quán)利要求1所述的緊縮場天線測量系統(tǒng)的方法，其特征在于，包括：
根據(jù)饋源相位中心、第一賦形副反射鏡、第二賦形副反射鏡以及主反射鏡的中心反射點(diǎn)位置，確定所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的法向量，以及計(jì)算所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的法向量；所述饋源相位中心、所述第一賦形副反射鏡、所述第二賦形副反射鏡以及所述主反射鏡的中心反射點(diǎn)位置滿足以下函數(shù)關(guān)系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
x1＝0
式中，f表示所述主反射鏡的焦距，r1表示所述饋源相位中心與所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r2表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)與所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r3表示所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)與所述主反射鏡中心反射點(diǎn)之間的距離，r4表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)與所述系統(tǒng)出射場口徑中心之間的距離，A表示所述主反射鏡的焦點(diǎn)的z軸坐標(biāo)值，與所述主反射鏡的焦距之間的比值，z3表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)的z軸坐標(biāo)值，x3表示所述主反射鏡中心反射點(diǎn)的x軸坐標(biāo)值，x1表示所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的x軸坐標(biāo)值；
基于預(yù)設(shè)的B樣條曲面構(gòu)建方法、所述第一賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的法向量及所述第二賦形副反射鏡中心反射點(diǎn)的法向量，確定所述第一賦形副反射鏡除中心反射點(diǎn)之外的其他反射點(diǎn)的參數(shù)，及所述第二賦形副反射鏡除中心反射點(diǎn)之外的其他反射點(diǎn)的參數(shù)，所述反射點(diǎn)的數(shù)量為預(yù)設(shè)數(shù)量，所述反射點(diǎn)的參數(shù)包括反射點(diǎn)的位置和法向量；
基于所述第一賦形副反射鏡的所有反射點(diǎn)的參數(shù)，確定所述第一賦形副反射鏡的曲面參數(shù)，以及基于所述第二賦形副反射鏡所有反射點(diǎn)的參數(shù)，確定所述第二賦形副反射鏡的曲面參數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京郵電大學(xué)，未經(jīng)北京郵電大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110156127.2/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
