[發明專利]一種膜分離沉淀池

在審

• 申請號: 202110151314.1
• 申請日: 2021-02-04
• 公開（公告）號: CN112807760A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 楊碧美
• 申請（專利權）人: 廣州森宇科技信息服務有限公司
• 主分類號: B01D21/02
• 分類號: B01D21/02;B01D21/24;B01D21/00
• 代理公司: 廣東省暢欣知識產權代理事務所(普通合伙) 44631
• 代理人: 齊軍彩

1.一種膜分離沉淀池，其結構包括存膜槽（1）、溢流槽（2）、支撐柱（3）、載臺（4）、排泥管（5）、沉淀池（6），所述存膜槽（1）下端與沉淀池（6）活動配合，所述沉淀池（6）底部前端與排泥管（5）法蘭連接，所述排泥管（5）與載臺（4）表面間隙配合，所述載臺（4）表面與支撐柱（3）嵌固連接，所述支撐柱（3）與存膜槽（1）下端焊接連接，所述存膜槽（1）右側與溢流槽（2）嵌套連接，其特征在于：

所述存膜槽（1）包括槽內腔（11）、排污口（12）、電動機（13）、折齒板（14）、阻斷板（15），所述槽內腔（11）中心與阻斷板（15）卡合連接，所述阻斷板（15）表面與折齒板（14）嵌固配合，所述折齒板（14）外端與電動機（13）間隙配合，所述電動機（13）與槽內腔（11）內部活動配合，所述槽內腔（11）側端與排污口（12）間隙配合。

2.根據權利要求1所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述槽內腔（11）包括防溢罩（111）、待入腔（112）、沉淀腔（113）、輸送螺桿（114），所述防溢罩（111）上端與沉淀腔（113）活動配合，所述沉淀腔（113）下端與待入腔（112）活動配合，所述待入腔（112）與防溢罩（111）整體間隙配合，所述防溢罩（111）下端與輸送螺桿（114）整體間隙配合。

3.根據權利要求2所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述防溢罩（111）包括擺桿（a1）、螺旋槽（a2）、固定板（a3）、吸收盤（a4）、流通腔（a5），所述擺桿（a1）與固定板（a3）表面鉸接連接，所述固定板（a3）內側與流通腔（a5）活動配合，所述流通腔（a5）外端兩側與螺旋槽（a2）間隙配合，所述螺旋槽（a2）頂部與吸收盤（a4）螺旋連接。

4.根據權利要求3所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述擺桿（a1）包括桿體（a11）、限位環（a12）、配重球（a13）、滑槽（a14）、平衡塊（a15），所述桿體（a11）末端與限位環（a12）活動配合，所述限位環（a12）與配重球（a13）整體間隙配合，所述配重球（a13）與滑槽（a14）內部滑動配合，所述滑槽（a14）與桿體（a11）表面嵌固連接，所述桿體（a11）頂端與平衡塊（a15）嵌固連接。

5.根據權利要求3所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述吸收盤（a4）包括轉盤（a41）、套筒（a42）、輔助盤（a43）、轉軸（a44），所述轉盤（a41）下端與轉軸（a44）活動配合，所述轉軸（a44）與套筒（a42）內部嵌套連接，所述套筒（a42）與輔助盤（a43）上端間隙配合，所述輔助盤（a43）與轉軸（a44）活動配合。

6.根據權利要求5所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述轉盤（a41）包括分流座（b1）、固定環（b2）、自吸孔（b3）、穩定座（b4），所述分流座（b1）底部與穩定座（b4）嵌固連接，所述穩定座（b4）與固定環（b2）下表面間隙配合，所述固定環（b2）表面與自吸孔（b3）嵌固連接。

7.根據權利要求6所述的一種膜分離沉淀池，其特征在于：所述分流座（b1）包括固定盤（b11）、螺紋柱（b12）、導流腔（b13），所述固定盤（b11）下端與導流腔（b13）活動配合，所述導流腔（b13）與螺紋柱（b12）內部間隙配合，所述螺紋柱（b12）與固定盤（b11）下端焊接連接。