[發明專利]干燥裝置、基板處理裝置和基板保持架的干燥方法在審
| 申請號: | 202110149368.4 | 申請日: | 2021-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN113203256A | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發明(設計)人: | 田村翔 | 申請(專利權)人: | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號: | F26B9/06 | 分類號: | F26B9/06;F26B21/00;F26B25/12;F26B25/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 舒艷君;金雪梅 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 干燥 裝置 處理 保持 方法 | ||
本發明提供干燥裝置、基板處理裝置和基板保持架的干燥方法。干燥裝置能夠除去在基板保持架的干燥時在干燥槽的內部浮游的顆粒物。本發明的干燥裝置(300)具備:干燥槽(320),其具有壁(322)、用于向壁的內表面供給液體的液體供給口(334)及用于排出內部的液體的排出口(336);多個噴嘴(340),其用于向基板保持架(200)噴射氣體;液體供給單元(312),其用于從液體供給口向干燥槽的內部供給液體;氣體供給單元(310),其用于向多個噴嘴供給氣體;控制裝置(380),控制裝置控制液體供給單元和氣體供給單元,使得在液體供給口向壁的內表面供給液體的期間,多個噴嘴向基板保持架或者基板(W)噴射氣體。
技術領域
本發明涉及干燥裝置、基板處理裝置和基板保持架的干燥方法。
背景技術
為了在基板的表面形成金屬薄膜,使用鍍敷裝置。存在鍍敷裝置具備基板干燥裝置的情況。在這樣的鍍敷裝置中,在對基板保持架所保持的基板的表面進行了鍍敷處理之后,清洗基板。然后,通過基板干燥裝置對基板進行干燥。
在專利文獻1中記載了基板干燥裝置的一例。在專利文獻1中,如該圖7所示,公開了具有干燥槽和位于干燥槽的內部的多個噴出噴嘴的基板干燥裝置。而且,在該基板干燥裝置中,多個噴出噴嘴構成為位于與基板對置的位置,朝向基板的表面噴出N2氣體或空氣等干燥氣體。
根據專利文獻1所記載的基板干燥裝置,從干燥槽的內部的噴出噴嘴朝向基板保持架所保持的基板的表面依次噴出N2氣體或空氣等干燥氣體。由此,該基板干燥裝置能夠除去附著于基板的表面的水滴并使其干燥。
專利文獻1:日本特開2013-201172號公報
如上所述,在專利文獻1所記載的基板干燥裝置中,通過由噴出噴嘴朝向基板噴出干燥氣體,而使基板干燥。而且,通過使向基板噴出的干燥氣體也吹到保持基板的基板保持架,從而該基板干燥裝置也使基板保持架干燥。此時,在顆粒物附著于基板或基板保持架的情況下,由于所噴出的干燥氣體,故顆粒物飛散。于是,有飛散的顆粒物附著于干燥槽的內表面而污染干燥槽的內部之虞。另外,在被污染的干燥槽的內部使用噴出噴嘴的情況下,有附著于干燥槽的內表面的顆粒物再次飛散而附著于其他的基板或基板保持架之虞。
發明內容
因此,本發明鑒于上述的課題,目的在于,提供干燥裝置、基板處理裝置和基板保持架的干燥方法,在基板保持架的干燥時能夠除去在干燥槽的內部浮游的顆粒物,能夠抑制附著于干燥槽的內表面的顆粒物再次飛散而附著于其他的基板或基板保持架。
一個實施方式的干燥裝置是用于使基板保持架干燥的干燥裝置,具備:干燥槽,其用于收容上述基板保持架,具有壁和用于排出內部的液體的排出口;液體供給口,其用于向上述壁的內表面供給液體;多個噴嘴,其位于上述干燥槽的上述內部,用于向收容于上述干燥槽的上述基板保持架噴射氣體;液體供給單元,其用于從上述液體供給口向上述干燥槽的上述內部供給液體;氣體供給單元,其用于向上述多個噴嘴供給上述氣體;以及控制裝置,上述控制裝置控制上述液體供給單元和上述氣體供給單元,使得在上述液體供給口向上述壁的上述內表面供給液體的期間,上述多個噴嘴向上述基板保持架或者上述基板噴射氣體。
根據本實施方式的干燥裝置,控制裝置控制液體供給單元和氣體供給單元,使得在液體供給口向壁的內表面供給液體的期間,多個噴嘴向基板保持架噴射氣體。即,在多個噴嘴向基板保持架噴射氣體時,處于液體必須從液體供給口向干燥槽的內部的壁的內表面供給的狀態。液體通過與干燥槽的內部的氣體接觸,能夠捕捉在氣體內浮游的顆粒物,能夠抑制干燥槽的內部被污染。即,本實施方式的干燥裝置能夠在基板保持架的干燥時除去在干燥槽的內部浮游的顆粒物,能夠抑制附著于干燥槽的內表面的顆粒物再次飛散而附著于其他的基板或基板保持架。
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