[發明專利]干燥裝置、基板處理裝置和基板保持架的干燥方法在審
| 申請號： | 202110149368.4 | 申請日： | 2021-02-03 |
| 公開（公告）號： | CN113203256A | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發明（設計）人： | 田村翔 | 申請（專利權）人： | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號： | F26B9/06 | 分類號： | F26B9/06;F26B21/00;F26B25/12;F26B25/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艷君;金雪梅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 干燥 裝置 處理 保持 方法 | ||
1.一種干燥裝置，用于使基板保持架干燥，其中，該干燥裝置具備：
干燥槽，其用于收容所述基板保持架，具有壁和用于排出內部的液體的排出口；
液體供給口，其用于向所述壁的內表面供給液體；
多個噴嘴，其位于所述干燥槽的所述內部，用于向收容于所述干燥槽的所述基板保持架噴射氣體；
液體供給單元，其用于從所述液體供給口向所述干燥槽的所述內部供給液體；
氣體供給單元，其用于向所述多個噴嘴供給所述氣體；以及
控制裝置，
所述控制裝置控制所述液體供給單元和所述氣體供給單元，使得在所述液體供給口向所述壁的所述內表面供給液體的期間，所述多個噴嘴向所述基板保持架或者所述基板噴射氣體。
2.根據權利要求1所述的干燥裝置，其中，
所述液體供給口形成于所述壁，具有在水平方向上延伸的下端部，
所述液體供給單元具備安裝在所述干燥槽的外側的罩部件，用以覆蓋所述液體供給口，
形成有由所述干燥槽和所述罩部件圍起的空間，流入到該空間的液體構成積液，構成該積液的液體通過所述液體供給口而向所述干燥槽的所述內部供給。
3.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，
所述干燥槽具有上表面，該上表面具備用于使所述基板保持架進入所述內部的開口。
4.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，
該干燥裝置還具備兩張噴嘴保持板，該兩張噴嘴保持板位于所述干燥槽的所述內部，隔開用于配置所述基板保持架的間隙地相互平行地配置，
所述壁具有在從上側觀察時形成矩形形狀的四個壁面，
所述兩張噴嘴保持板與所述四個壁面中的相互平行的兩個壁面平行地配置，
所述多個噴嘴的一部分安裝于所述兩張噴嘴保持板中的一張噴嘴保持板，
所述多個噴嘴的剩余部分安裝于所述兩張噴嘴保持板中的另一張噴嘴保持板，
在所述四個壁面中的與所述噴嘴保持板垂直地延伸的兩個壁面分別形成有所述液體供給口。
5.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，
所述液體供給口位于比所述多個噴嘴高的位置。
6.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，
該干燥裝置還具備：
第一排氣管道，其具有位于比所述液體供給口靠下側處的用于將所述干燥槽的所述內部的氣體排氣的第一排氣口；以及
傾斜板，其端部固定在所述壁的比所述第一排氣口靠上側處，以隨著趨向所述干燥槽的下側而遠離所述壁的方式傾斜。
7.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，
該干燥裝置還具備第二排氣管道，該第二排氣管道具有用于吸引所述干燥槽的所述內部的氣體的第二排氣口，以使所述干燥槽的所述內部成為負壓。
8.根據權利要求7所述的干燥裝置，其中，
所述干燥槽的所述內部的氣體受所述第二排氣口吸引而使所述干燥槽的所述內部成為-80kPa以下。
9.根據權利要求7所述的干燥裝置，其中，
所述第二排氣管道貫通所述干燥槽的底面而與所述干燥槽的所述內部進行流體連通。
10.根據權利要求9所述的干燥裝置，其中，
所述第二排氣口位于比所述排出口高的位置，
該干燥裝置在所述第二排氣口的上側具備頂板。
11.根據權利要求7所述的干燥裝置，其中，
該干燥裝置還具備排氣調整閥，該排氣調整閥用于調整受所述第二排氣口吸引的氣體的流量。
12.根據權利要求7所述的干燥裝置，其中，
所述排出口形成在所述干燥槽的底面，并且位于能夠將在氣體受所述第二排氣口吸引時被吸至所述第二排氣口的液體排出那樣的接近所述第二排氣口的位置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社荏原制作所，未經株式會社荏原制作所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110149368.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
