[發(fā)明專利]一種金屬掩膜版的張網(wǎng)控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110145652.4
• 申請(qǐng)日: 2021-02-03
• 公開（公告）號(hào): CN112458402B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何遠(yuǎn)超;劉耀陽;徐健;顧駿
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海精驪電子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56
• 代理公司: 武漢藍(lán)寶石專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42242
• 代理人: 劉璐

1.一種金屬掩膜版的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，包括：

獲取金屬掩膜版上各測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置，并與各測(cè)量點(diǎn)位的目標(biāo)位置進(jìn)行比較，得到各測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置偏差量；

構(gòu)建張網(wǎng)裝置上各個(gè)夾爪的移動(dòng)位移量與各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的位置變化量之間的函數(shù)關(guān)系；

基于各測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置偏差量以及上述函數(shù)關(guān)系，計(jì)算出張網(wǎng)裝置上各個(gè)夾爪需要移動(dòng)的位移量；

控制張網(wǎng)裝置上各個(gè)夾爪移動(dòng)需要移動(dòng)的位移量，使得各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位從當(dāng)前位置調(diào)整到目標(biāo)位置；

其中，所述金屬掩膜版上有多個(gè)夾持部位和多個(gè)測(cè)量點(diǎn)位，張網(wǎng)裝置的多個(gè)夾爪夾住所述金屬掩膜版上的多個(gè)夾持部位對(duì)金屬掩膜版進(jìn)行拉伸；

其中，所述構(gòu)建張網(wǎng)裝置上各個(gè)夾爪的移動(dòng)位移量與各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的位置變化量之間的函數(shù)關(guān)系，具體包括：

按照順序?qū)Χ鄠€(gè)夾爪中的其中一個(gè)夾爪進(jìn)行微小位移，保持其它夾爪的位置不變，測(cè)量各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位由當(dāng)前夾爪微小移動(dòng)引起的位置變化量；

基于夾爪的位移量和各個(gè)測(cè)量點(diǎn)的相應(yīng)位置變化量建立數(shù)學(xué)模型，獲取各夾爪的移動(dòng)位移量與各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的位置變化量之間的函數(shù)關(guān)系，所述函數(shù)關(guān)系以轉(zhuǎn)換矩陣表示。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，所述按照順序?qū)Χ鄠€(gè)夾爪中的其中一個(gè)夾爪進(jìn)行微小位移，保持其它夾爪的位置不變，測(cè)量各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位由當(dāng)前夾爪微小移動(dòng)引起的位置變化量，具體包括：

測(cè)量金屬掩膜版上各測(cè)量點(diǎn)位的初始位置；

將張網(wǎng)裝置上的第一個(gè)夾爪進(jìn)行微小位移，保持其它夾爪位置不變，記錄各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置；

根據(jù)各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的初始位置和當(dāng)前位置，計(jì)算各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的位置變化量；

以此類推，每次對(duì)尚未進(jìn)行微小位移的夾爪中的一個(gè)夾爪進(jìn)行微小位移，保持其它的夾爪位置不變，記錄各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置；

根據(jù)各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置與上一次的位置，計(jì)算由所述其中一個(gè)夾爪微小移動(dòng)引起的各測(cè)量點(diǎn)位的位置變化量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，所述獲取金屬掩膜版上各測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置包括：

通過移動(dòng)張網(wǎng)裝置上的測(cè)量組件測(cè)量所述金屬掩膜版上的各測(cè)量點(diǎn)位的當(dāng)前位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，所述控制張網(wǎng)裝置上各個(gè)夾爪移動(dòng)需要移動(dòng)的位移量，使得各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位從當(dāng)前位置調(diào)整到目標(biāo)位置，具體包括：

在相同的時(shí)間內(nèi)，控制所述張網(wǎng)裝置的各個(gè)夾爪從當(dāng)前位置同步移動(dòng)到需要移動(dòng)的位置，使得各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位從當(dāng)前位置調(diào)整到目標(biāo)位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，根據(jù)每一個(gè)夾爪需要移動(dòng)的位移量和預(yù)設(shè)的同步移動(dòng)時(shí)間，計(jì)算在所述預(yù)設(shè)的同步移動(dòng)時(shí)間內(nèi)每一個(gè)時(shí)刻每一個(gè)夾爪應(yīng)移動(dòng)的位移量；

通過張網(wǎng)裝置控制每一個(gè)夾爪在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)同步移動(dòng)需要移動(dòng)的位移量。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2任一項(xiàng)所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，所述金屬掩膜版為普通金屬掩膜版或精細(xì)金屬掩膜版。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的張網(wǎng)控制方法，其特征在于，當(dāng)金屬掩膜版為精細(xì)金屬掩膜版時(shí)，所述控制張網(wǎng)裝置的各個(gè)夾爪同步移動(dòng)需要移動(dòng)的位移量，使得各個(gè)測(cè)量點(diǎn)位從當(dāng)前位置調(diào)整到目標(biāo)位置之后還包括：

將所述精細(xì)金屬掩膜版上的用于蒸鍍時(shí)形成像素的刻蝕孔調(diào)整到目標(biāo)位置。