[發明專利]掩模板、掩模板組件及掩模板組件制備方法

有效

• 申請號: 202110141766.1
• 申請日: 2021-02-02
• 公開（公告）號: CN112962056B
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 謝飛;宋裕斌;吳建鵬;楊博文;尚鈺東;李榮輝;劉遠洋;劉番;田昊;楚志偉
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 李遠思

1.一種掩模板，該掩模板形成在掩模框架上，其特征在于，所述掩模板的與所述掩模框架的固接的環形區域具有多個鏤空部，沿著所述鏤空部的靠近鏤空區域的邊緣與所述掩模框架進行焊接，多個所述鏤空部沿所述環形區域均勻分布，所述環形區域包括兩相對設置的第一邊側以及兩相對設置的第二邊側，其中，位于第一邊側的多個鏤空部均勻分布以及位于第二邊側的多個鏤空部均勻分布。

2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，多個所述鏤空部的個數少于掩模板對應面板部分的開口個數。

3.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，位于兩第一邊側上的多個所述鏤空部呈對稱設置；位于兩第二邊側上的多個所述鏤空部呈對稱設置。

4.根據權利要求1所述的掩模 板，其特征在于，位于兩第一邊側上的多個所述鏤空部結構尺寸相同；位于兩第二邊側上的多個所述鏤空部結構尺寸相同。

5.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述鏤空部的鏤空區域的形狀為矩形。

6.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述鏤空部與所述掩模框架焊接形成的焊接點位的密度為每1cm形成3-7個。

7.一種掩模板組件，其特征在于，包括如權利要求1-6中任一項所述的掩模板和掩模框架。

8.根據權利要求7所述的掩模板組件，其特征在于，所述掩模框架的對應于與所述鏤空部的位置形成有框架鏤空部。

9.一種如權利要求7所述的掩模板組件的制備方法，其特征在于，包括：

在所述掩模板的與所述掩模框架的固接的環形區域刻蝕形成多個鏤空部；

將所述掩模板與所述掩模框架進行對位焊接以形成所述掩模板組件。

10.一種如權利要求8所述的掩模板組件的制備方法，其特征在于，包括：

在所述掩模板的與所述掩模框架的固接的環形區域刻蝕形成多個鏤空部；

在所述掩模框架的對應于與所述鏤空部的位置刻蝕形成框架鏤空部；

將所述掩模板與所述掩模框架進行對位焊接以形成所述掩模板組件。