[發明專利]掩模板、掩模板組件及掩模板組件制備方法

有效

• 申請號: 202110141766.1
• 申請日: 2021-02-02
• 公開（公告）號: CN112962056B
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 謝飛;宋裕斌;吳建鵬;楊博文;尚鈺東;李榮輝;劉遠洋;劉番;田昊;楚志偉
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 李遠思

本申請實施例公開一種掩模板、掩模板組件及掩模板組件制備方法。該掩模板的一具體實施方式包括：該掩模板形成在掩模框架上，掩模板的與掩模框架的固接的環形區域具有多個鏤空部。該實施方式通過在掩模板與掩模框架的固接區域形成多個鏤空部，可減小掩模板與掩模框架的接觸面積，從而方便對掩模板與掩模框架之間的藥液殘留進行處理，使得藥液殘留的情況大幅度降低，保證了蒸鍍器件的壽命及性能；同時，該設計還降低了掩模板組件的清洗周期時間，提高了掩模板組件的稼動率。

技術領域

本申請涉及顯示技術領域。更具體地，涉及一種掩模板、掩模板組件及掩模板組件制備方法。

背景技術

蒸鍍使用的通用掩模板，常被用在顯示器件蒸鍍通用層有機材料或無機材料上，掩模板在經過特定藥液清洗后，可以進行反復使用。而清洗過程中，需要經過幾次有機溶劑藥液將掩模板上的有機材料溶解，然后進行干燥處理才能再次使用。在這一過程中，一旦掩模板上存在藥液殘留，那么在使用其進行蒸鍍的過程中，就會影響蒸鍍器件的壽命性能。

但是，掩模板與掩模框架之間由于焊點的支撐，在掩模板與掩模框架固接區域形成一定的間隙，無法緊密貼合，如此，在實際的清洗工藝里，干燥使用的空氣風刀無法處理夾縫中。

發明內容

本申請的目的在于提供一種掩模板、掩模板組件及掩模板組件制備方法，以解決現有技術存在的問題中的至少一個。

為達到上述目的，本申請采用下述技術方案：

本申請第一方面提供了一種掩模板，該掩模板形成在掩模框架上，所述掩模板的與所述掩模框架的固接的環形區域具有多個鏤空部。

本申請第一方面提供的掩模板，通過在掩模板與掩模框架的固接區域形成多個鏤空部，可減小掩模板與掩模框架的接觸面積，從而方便對掩模板與掩模框架之間的藥液殘留進行處理，使得藥液殘留的情況大幅度降低，保證了蒸鍍器件的壽命及性能；同時，該設計還降低了掩模板組件的清洗周期時間，提高了掩模板組件的稼動率。

在一種可能的實現方式中，多個所述鏤空部的個數少于掩模板對應面板部分的開口個數。

此實現方式，避免鏤空部的數量過多導致掩模板與掩模框架之間的固接穩定性。

在一種可能的實現方式中，多個所述鏤空部沿所述環形區域均勻分布。

此實現方式，通過將鏤空部均勻分布，可保證掩模板表面的受力均勻，防止掩模板在使用時發生形變，保證了蒸鍍器件的性能。

在一種可能的實現方式中，所述環形區域包括兩相對設置的第一邊側以及兩相對設置的第二邊側，其中，位于第一邊側的多個鏤空部均勻分布以及位于第二邊側的多個鏤空部均勻分布。

此實現方式，通過在掩模板的兩相對邊側均勻設置鏤空部，可保證掩模板表面的受力均勻以及掩模板表面的平坦度。

在一種可能的實現方式中，位于兩第一邊側上的多個所述鏤空部呈對稱設置；位于兩第二邊側上的多個所述鏤空部呈對稱設置。

此實現方式，可保證掩模板的整體受力均勻，保證了蒸鍍器件的性能。

在一種可能的實現方式中，位于兩第一邊側上的多個所述鏤空部結構尺寸相同；位于兩第二邊側上的多個所述鏤空部結構尺寸相同。

此實現方式，掩模板相對邊側的鏤空部形狀和大小等物理參數完全相同，保證了相對邊側的受力均勻及平坦度。

在一種可能的實現方式中，沿著所述鏤空部的靠近鏤空區域的邊緣與所述掩模框架進行焊接。

此實現方式，通過在鏤空部的位置與掩模框架進行焊接，可增加掩模板與掩模框架的焊接點位，提高焊接強度，提升焊接良率，以此來提升蒸鍍器件的性能。

在一種可能的實現方式中，所述鏤空部的鏤空區域的形狀為矩形。