[發(fā)明專利]一種氮化硅基復(fù)相導(dǎo)電陶瓷的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110140908.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-02-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112851365B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張偉儒;張晶;孫峰;董廷霞;李澤坤;李洪浩;徐金夢(mèng);荊赫;呂沛遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中材高新氮化物陶瓷有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C04B35/584 | 分類(lèi)號(hào): | C04B35/584;C04B35/64 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 趙曉琳 |
| 地址: | 255000 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化 硅基復(fù)相 導(dǎo)電 陶瓷 制備 方法 | ||
1.一種氮化硅基復(fù)相導(dǎo)電陶瓷的制備方法,包括以下步驟:
(1)將氮化硅、導(dǎo)電相以及燒結(jié)助劑混合后通過(guò)成型,得到坯體;所述燒結(jié)助劑包括稀土氧化物和金屬氧化物,所述金屬氧化物包括氧化鋁或氧化鎂;所述坯體中氮化硅的質(zhì)量含量為40~60%,導(dǎo)電相的質(zhì)量含量為30~50%,金屬氧化物的質(zhì)量含量為1~5%,稀土氧化物的質(zhì)量含量為2~10%;所述氮化硅中β-Si3N4的質(zhì)量含量為≥95%,所述氮化硅的平均粒徑D50≤1.0μm;
(2)將所述步驟(1)得到的坯體依次進(jìn)行高溫微波燒結(jié)和低溫微波燒結(jié),得到氮化硅基復(fù)相導(dǎo)電陶瓷;所述高溫微波燒結(jié)的溫度為1500~1700℃,所述低溫微波燒結(jié)的溫度為1400~1600℃,所述高溫微波燒結(jié)和低溫微波燒結(jié)的溫度差為50~150℃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述導(dǎo)電相包括TiN、TiC、TiCN、TiB2、ZrN、ZrC、ZrB2或MoSi2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述稀土氧化物包括氧化釔、氧化鑭或氧化鈰。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中坯體的原料還包括微波吸收劑;所述微波吸收劑包括碳化硅或氧化鋯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中成型的方式包括干壓、冷等靜壓、注塑、注凝和注漿中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中高溫微波燒結(jié)的保溫時(shí)間為0~30min;所述低溫微波燒結(jié)的保溫時(shí)間為10~120mim。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中高溫微波燒結(jié)的升溫速率為2~30℃/min,高溫微波燒結(jié)后降溫至所述低溫微波燒結(jié)的溫度的降溫速率為30~80℃/min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中的高溫微波燒結(jié)和低溫微波燒結(jié)均在氮?dú)鈿夥罩羞M(jìn)行,所述氮?dú)獾牧髁开?dú)立地為0.5~5L/min。
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