[發明專利]一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置

在審

• 申請號: 202110137925.0
• 申請日: 2021-02-01
• 公開（公告）號: CN112962079A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 劉宗昆;陳景鴻;孫立民;羅輝慶;黃德安
• 申請（專利權）人: 肇慶宏旺金屬實業有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54
• 代理公司: 廣州知順知識產權代理事務所(普通合伙) 44401
• 代理人: 彭志堅

本發明公開了一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜腔室，所述真空鍍膜腔室內設有沿鍍膜方向依次設置的進料段、鍍膜段、以及出料段，所述進料段和鍍膜段的連接處，以及鍍膜段和出料段的連接處均設有用于間隔密封的門體結構，所述進料段連接有抽真空裝置，所述出料段連接有充氣裝置。本發明具有結構簡單，密封性能強的優點，有效地解決了現有的鍍膜生產線的真空鍍膜裝置由于連續不中斷的上下料，容易導致外界的空氣進入鍍膜腔室內，破壞真空環境，導致鍍膜效果降低的問題。

技術領域

本發明涉及鍍膜設備技術領域，尤其是涉及一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置。

背景技術

在真空鍍膜技術領域中，鍍膜設備一般采用的鍍膜裝置多為連續鍍膜裝置或只能對部分板材進度鍍膜處理的鍍膜裝置，隨著科技的不斷發展，企業的鍍膜效率的需求也日益提高，能夠連續進行鍍膜處理的真空鍍膜裝置，相較于只能對部分板材進行鍍膜處理的鍍膜裝置更加受到企業的青睞。

真空鍍膜裝置應用在鍍膜生產線時，由于鍍膜生產線的板材時不中斷輸送的，在鍍膜的過程中，需要不斷的打開真空鍍膜腔室進行上料和下料，容置導致空氣進入真空鍍膜腔室內，破壞鍍膜腔室的真空鍍膜環境，影響板材的鍍膜效果以及鍍膜效率。

因此，有必要研究開發一種能夠在鍍膜上下料時，隔絕鍍膜腔室內部，避免外界空氣進入鍍膜腔室，真空鍍膜環境被破壞的真空鍍膜裝置，解決上述技術問題。

發明內容

本發明目的在于提供一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置，用以解決現有的鍍膜生產線的真空鍍膜裝置由于連續不中斷的上下料，容易導致外界的空氣進入鍍膜腔室內，破壞真空環境，導致鍍膜效果降低的問題。

為了達到上述目的，本發明提供的一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置，具體實施方案如下：

一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜腔室，所述真空鍍膜腔室內設有沿鍍膜方向依次設置的進料段、鍍膜段、以及出料段，所述進料段和鍍膜段的連接處，以及鍍膜段和出料段的連接處均設有用于間隔密封的門體結構，所述進料段連接有抽真空裝置，所述出料段連接有充氣裝置。

目前，現有的真空鍍膜裝置應用在鍍膜生產線時，由于鍍膜生產線的板材時不中斷輸送的，在鍍膜的過程中，需要不斷的打開真空鍍膜腔室進行上料和下料，容置導致空氣進入真空鍍膜腔室內，破壞鍍膜腔室的真空鍍膜環境，影響板材的鍍膜效果以及鍍膜效率。

本發明的一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置，相對于現有技術，通過將真空鍍膜腔室設置成沿鍍膜方向依次設置的進料段、鍍膜段以及出料段，在進料段上連接抽真空裝置，在出料段連接充氣裝置，在進料段和鍍膜段的連接處，鍍膜段和出料段的連接處均設置用于間隔密封的門體結構，利用門體結構將進料段、鍍膜段以及出料段分隔開來，在上料的過程中，真空鍍膜腔室內除了進料段的之前的其余部分均不予外界空氣接觸，能夠避免空氣進入鍍膜段內，上料后通過抽真空裝置將進料段進行抽真空處理，使得鍍膜段和進料段連通時，進料段內沒有空氣進入鍍膜段內，避免鍍膜段內存在空氣，破壞真空鍍膜環境，降低鍍膜效果的情況發生；并在通過充氣裝置對出料段進行充氣處理，使得出料段內的空氣濃度接近或等于外界空氣濃度，避免空氣濃度差對鍍膜處理后的板材造成影響或損壞的情況發生。有效地解決了現有的鍍膜生產線的真空鍍膜裝置由于連續不中斷的上下料，容易導致外界的空氣進入鍍膜腔室內，破壞真空環境，導致鍍膜效果降低的問題。

作為本發明的進一步改進，所述進料段包括沿鍍膜輸送方向依次設置的第一真空室段和第二真空室段，所述抽真空裝置包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵連通所述第一真空室段，用以對第一真空室段進行一級抽真空處理，所述第二真空泵連通所述第二真空室段，用以對第二真空室段進行二級抽真空處理。