[發明專利]一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置

在審

• 申請號: 202110137925.0
• 申請日: 2021-02-01
• 公開（公告）號: CN112962079A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 劉宗昆;陳景鴻;孫立民;羅輝慶;黃德安
• 申請（專利權）人: 肇慶宏旺金屬實業有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54
• 代理公司: 廣州知順知識產權代理事務所(普通合伙) 44401
• 代理人: 彭志堅

1.一種用于連續鍍膜的真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜腔室(1)，其特征在于，所述真空鍍膜腔室(1)內設有沿鍍膜方向依次設置的進料段(11)、鍍膜段(12)、以及出料段(13)，所述進料段(11)和鍍膜段(12)的連接處，以及鍍膜段(12)和出料段(13)的連接處均設有用于間隔密封的門體結構(2)，所述進料段(11)連接有抽真空裝置(3)，所述出料段(13)連接有充氣裝置(4)。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述進料段(11)包括沿鍍膜輸送方向依次設置的第一真空室段(111)和第二真空室段(112)，所述抽真空裝置(3)包括第一真空泵(31)和第二真空泵(32)，所述第一真空泵(31)連接所述第一真空室段(111)，用以對第一真空室段(111)進行一級抽真空處理，所述第二真空泵(32)連接所述第二真空室段(112)，用以對第二真空室段(112)進行二級抽真空處理，二級抽真空處理的真空度高于一級抽真空處理的真空度，低于鍍膜段(12)內的真空度。

3.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述出料段(13)包括沿鍍膜輸送方向依次設置的第三真空室段(131)和第四真空室段(132)，所述充氣裝置(4)包括第一充氣泵(41)和第二充氣泵(42)，所述第一充氣泵(41)與所述第三真空室段(131)連接，用以對第三真空室段(131)進行一級充氣處理，所述第二充氣泵(42)與所述第四真空室段(132)連接，用以對第四真空室段(132)進行進一步的充氣處理，使得從鍍膜段(12)內的真空度至第四真空室段(132)的真空度逐漸降低，第三真空室段(131)內的真空度高于第四真空室段(132)內的真空度。

4.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述門體結構(2)包括門體(21)，用于密封所述真空鍍膜腔室(1)，所述門體(21)設有多個，分別設于所述進料段(11)的入口處、出料段(13)的出口處、進料段(11)和鍍膜段(12)的連接處、以及鍍膜段(12)和出料段(13)的連接處，所述門體(21)在鋼板前端送至時打開，鋼板尾端離開后關閉。

5.根據權利要求4所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述門體結構(2)包括轉軸(22)、轉動塊(23)以及驅動氣缸(24)，所述驅動氣缸(24)設于所述真空鍍膜腔室(1)的外側壁上，門體(21)的頂部連接所述轉軸(22)，所述轉軸(22)的一端貫穿所述真空鍍膜腔室的側壁連接所述轉動塊(23)，所述轉動塊(23)與所述驅動氣缸(24)的活塞桿(242)連接，利用驅動氣缸(24)的活塞桿(242)的伸縮，帶動轉動塊(23)轉動，驅使轉軸(22)旋轉，帶動門體(21)擺動角度。

6.根據權利要求5所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述門體(21)的外表面設有多個連接塊(211)，所述連接塊(211)的頂部伸出所述門體(21)的頂部設置，所述轉軸(22)穿過所述連接塊(211)的頂部，與所述連接塊(211)固定連接。

7.根據權利要求5所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述轉軸(22)的兩端部設有插接柱(221)，所述轉動塊(23)上設有插接孔，所述插接柱(221)插接在所述插接孔內，與所述轉動塊(23)過盈配合連接。

8.根據權利要求7所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動氣缸(24)的活塞桿(242)固定連接有連接柱(241)，所述轉動塊(23)上設有插接槽(231)，所述連接柱(241)插接在所述插接槽(231)內。

9.根據權利要求8所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述轉動塊(23)上設有貫穿所述插接槽(231)設置的連接軸，且所述連接軸穿過所述連接柱(241)，與所述連接柱(241)可轉動連接。