[發明專利]一種高通量薄膜的制備裝置及方法

在審

• 申請號: 202110135381.4
• 申請日: 2021-02-01
• 公開（公告）號: CN112962067A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 尹彬;張慶釗
• 申請（專利權）人: 北京中科泰龍電子技術有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 張德才

本發明公開一種高通量薄膜的制備裝置及方法，涉及高通量薄膜制備裝置技術領域，主要結構包括樣品臺、多個濺射靶和擋板；所述樣品臺設置于所述多個濺射靶的中部，并與所述多個濺射靶相隔一定距離；所述擋板可移動的設置于所述多個濺射靶之間且位于所述樣品臺正下方。通過調整擋板和樣品臺之間的距離，改變濺射靶的功率，從而在樣品臺上由邊緣向中部濺射出不同成分的鍍膜，從而能夠對裝置內部一次抽真空即可完成多個樣品的制備，大大縮短了制備樣品所需的時間，從而提高材料的研發速度。

技術領域

本發明涉及高通量薄膜制備裝置技術領域，特別是涉及一種高通量薄膜的制備裝置及方法。

背景技術

新材料的研發是一個復雜的過程，通常情況下，開發者一次只能制備一種成分單一的材料，并對其相關性能進行測試。這種以試錯為特征的傳統材料研究方法不僅耗時費力，嚴重制約了材料的研發速度，而且需要較高的研發費用。

鑒于此，必須探索更高效的材料制備方法。

發明內容

為解決以上技術問題，本發明提供一種高通量薄膜的制備裝置及方法，能夠一次制備出多種成分不同的材料，從而提高材料的研發速度。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

本發明提供一種高通量薄膜的制備裝置，包括樣品臺、多個濺射靶和擋板；所述樣品臺設置于所述多個濺射靶的中部，并與所述多個濺射靶相隔一定距離；所述擋板可移動的設置于所述多個濺射靶之間且位于所述樣品臺正下方。

可選的，所述擋板與一個線性驅動機構傳動連接。

可選的，所述線性驅動機構為氣缸或液壓缸或直線電機。

可選的，所述擋板在靠近所述樣品臺時可遮蓋所述樣品臺，所述擋板在靠近所述多個濺射靶時完全不遮蓋所述樣品臺。

可選的，所述擋板為實心擋板或具有鏤空結構的擋板。

可選的，還包括控制系統，所述控制系統用于控制所述多個濺射靶的濺射功率以及所述擋板的位置。

本發明還公開一種上述的高通量薄膜的制備裝置的制備方法，包括以下步驟：

S1：將所需材料成分的靶材安置于各濺射靶上，并調整各濺射靶的高度和角度；

S2：對裝置內部抽真空，之后注入濺射氣體，調整裝置內部的氣壓、溫度和濺射靶的濺射功率；

S3：打開濺射電源開關，開始濺射鍍膜；

S4：在濺射過程中，通過調整擋板的位置，改變擋板與樣品臺的相對距離，實現對一個濺射靶或幾個濺射靶的部分或完全遮擋，并改變濺射靶的濺射功率，在樣品臺上由邊緣向中部濺射出不同成分的鍍膜；

S5：鍍膜完成后，關閉濺射電源開關，取出樣品臺，得到一個具有多種不同成分的鍍膜樣品。

本發明相對于現有技術取得了以下技術效果：

本發明中的高通量薄膜的制備裝置，主要結構包括樣品臺、不少于兩個濺射靶和擋板；通過調整擋板和樣品臺之間的距離，改變濺射靶的功率，從而在樣品臺上由邊緣向中部濺射出不同成分的鍍膜，從而能夠對裝置內部一次抽真空即可完成多個樣品的制備，大大縮短了制備樣品所需的時間，從而提高材料的研發速度。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明高通量薄膜的制備裝置的剖視結構示意圖；

圖2為本發明高通量薄膜的制備裝置的側向結構示意圖；