[發(fā)明專利]一種分析介質(zhì)目標(biāo)電磁特性的積分方程直接求解方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110109497.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113158409A | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宛汀;謝鳴;陳天昊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人: | 王素琴 |
| 地址: | 210012 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 分析 介質(zhì) 目標(biāo) 電磁 特性 積分 方程 直接 求解 方法 | ||
1.一種分析介質(zhì)目標(biāo)電磁特性的積分方程直接求解方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
第一步,建立介質(zhì)目標(biāo)模型,采用三角形單元離散介質(zhì)目標(biāo)表面,得到生成RWG基函數(shù)所需的三角形單元、棱邊、節(jié)點(diǎn)信息;
第二步,根據(jù)介質(zhì)目標(biāo)的電尺寸進(jìn)行分層分組,構(gòu)建出八叉樹結(jié)構(gòu),然后針對(duì)介質(zhì)目標(biāo)表面建立JMCFIE方程,采用伽略金方法獲得阻抗矩陣方程;
第三步,根據(jù)所述八叉樹結(jié)構(gòu)分離近場(chǎng)和遠(yuǎn)場(chǎng),近場(chǎng)矩陣采用矩量法生成的滿陣表達(dá),對(duì)JMCFIE阻抗矩陣中的遠(yuǎn)場(chǎng)部分采用壓縮類算法并分塊構(gòu)建低秩表達(dá)式;
第四步,分別構(gòu)建JMCFIE阻抗矩陣中的電流、磁流、電流-磁流及磁流-電流耦合矩陣塊的H-矩陣;
第五步,采用H-矩陣格式的上下三角分解算法分解所述H-矩陣,得到具有H-矩陣格式的上下三角因子,結(jié)合前后向回代算法,即可實(shí)現(xiàn)對(duì)于JMCFIE阻抗矩陣方程的直接求解,得到電流和磁流系數(shù),最終計(jì)算出介質(zhì)目標(biāo)的電磁特性參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分析介質(zhì)目標(biāo)電磁特性的積分方程直接求解方法,其特征在于,第三步中所述的對(duì)JMCFIE阻抗矩陣中的遠(yuǎn)場(chǎng)部分采用壓縮類算法并分塊構(gòu)建低秩表達(dá)式的過程包括:
采用分層自適應(yīng)交叉近似算法先自適應(yīng)的抽取整個(gè)矩陣塊的行或列,后填充被抽取出的行或列中的元素,接著在所述矩陣塊被近似表達(dá)為兩低秩矩陣相乘形式后,分別分割兩低秩矩陣塊中的電流和磁流部分,將得到的4個(gè)低秩矩陣塊采用正交三角分解及奇異值分解進(jìn)一步壓縮得到最終的電流、磁流、電流-磁流及磁流-電流耦合矩陣塊的低秩表達(dá)形式。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種分析介質(zhì)目標(biāo)電磁特性的積分方程直接求解方法,其特征在于,所述矩陣塊被近似表達(dá)為兩低秩矩陣相乘形式如下所示:
其中A、Β為經(jīng)過自適應(yīng)交叉近似算法壓縮得到的兩低秩矩陣,r為A、Β矩陣塊的秩,m、n為源、場(chǎng)組中基函數(shù)個(gè)數(shù),因是將包括電流和磁流的整體矩陣塊先進(jìn)行壓縮,故Z的大小為2m×2n,A1、B1是低秩矩陣中的電流部分,A2、B2是低秩矩陣中的磁流部分,且有:ZJJ=A1B1、ZJM=A1B2、ZMJ=A2B1、ZMM=A2B2。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種分析介質(zhì)目標(biāo)電磁特性的積分方程直接求解方法,其特征在于,所述分別分割兩低秩矩陣塊中的電流和磁流部分,得到的4個(gè)低秩矩陣塊的步驟包括:首先分割A(yù)、Β矩陣塊中的電流、磁流部分,取A、Β矩陣塊的電流部分,即A1、Β1矩陣塊,并且分別對(duì)這2個(gè)矩陣塊做正交三角分解得到QA、RA、QB、RB矩陣塊,即:
Aim×r=QAm×rRAr×r;
Bjn×rT=QBn×rRBr×r。
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