[發(fā)明專(zhuān)利]成膜裝置和成膜方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110096134.8
• 申請(qǐng)日: 2021-01-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113293360A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 加藤壽;石井亨;瀬下裕志;佐瀬雄一郎
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/458
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/458;C23C16/46
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有：

旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其設(shè)于真空容器內(nèi)；

載置臺(tái)，其沿著所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的周向設(shè)置，用于載置基板；

處理區(qū)域，在該處理區(qū)域，朝向所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上表面供給處理氣體；

熱處理區(qū)域，其沿著所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的周向與所述處理區(qū)域分離開(kāi)地配置，在該熱處理區(qū)域，以比所述處理區(qū)域的溫度高的溫度對(duì)所述基板進(jìn)行熱處理；以及

冷卻區(qū)域，其沿著所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的周向與所述熱處理區(qū)域分離開(kāi)地配置，在該冷卻區(qū)域，冷卻所述基板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有分離區(qū)域，該分離區(qū)域?qū)⑺鎏幚韰^(qū)域與所述熱處理區(qū)域之間分離、將所述熱處理區(qū)域與所述冷卻區(qū)域之間分離以及將所述冷卻區(qū)域與所述處理區(qū)域之間分離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成膜裝置，其中，

所述處理區(qū)域包括：

吸附區(qū)域，在該吸附區(qū)域，朝向所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的所述上表面供給原料氣體而使其吸附于所述基板；以及

反應(yīng)區(qū)域，其沿著所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的周向與所述吸附區(qū)域分離開(kāi)地配置，在該反應(yīng)區(qū)域，朝向所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的所述上表面供給反應(yīng)氣體而使吸附于所述基板的所述原料氣體反應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有分離區(qū)域，該分離區(qū)域用于將所述吸附區(qū)域與所述反應(yīng)區(qū)域之間分離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述載置臺(tái)相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

在所述熱處理區(qū)域，在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上表面的上方設(shè)有加熱單元，該加熱單元加熱載置于所述載置臺(tái)的所述基板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

在所述熱處理區(qū)域設(shè)有等離子體生成部，該等離子體生成部對(duì)載置于所述載置臺(tái)的所述基板進(jìn)行等離子體處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

在所述冷卻區(qū)域，在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上表面的上方設(shè)有冷卻氣體供給部，該冷卻氣體供給部向載置于所述載置臺(tái)的所述基板供給冷卻氣體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

在所述冷卻區(qū)域，在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的下表面的下方設(shè)有冷卻用板，該冷卻用板冷卻載置于所述載置臺(tái)的所述基板。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有控制部，

所述控制部構(gòu)成為：通過(guò)使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)間歇旋轉(zhuǎn)，從而以所述基板依次通過(guò)所述處理區(qū)域、所述熱處理區(qū)域以及所述冷卻區(qū)域的方式控制所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)。

11.一種成膜方法，其中，

該成膜方法通過(guò)在沿著設(shè)于真空容器內(nèi)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)方向設(shè)置的多個(gè)載置臺(tái)分別載置基板，并使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)間歇旋轉(zhuǎn)，從而執(zhí)行多次循環(huán)，該循環(huán)包括以下工序：

朝向所述基板的上表面供給處理氣體；

以比供給所述處理氣體的工序的溫度高的溫度對(duì)供給了所述處理氣體的所述基板進(jìn)行熱處理；以及

冷卻進(jìn)行了熱處理的所述基板。