[發明專利]高附著率的電容器基膜及其制備裝置、方法

在審

• 申請號: 202110095780.2
• 申請日: 2021-01-25
• 公開（公告）號: CN112768236A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 麥灼棠
• 申請（專利權）人: 安徽旭峰電容器有限公司
• 主分類號: H01G4/18
• 分類號: H01G4/18;H01G4/33;H01G13/00
• 代理公司: 合肥東信智谷知識產權代理事務所(普通合伙) 34143
• 代理人: 朱軍

1.高附著率的電容器基膜，其特征在于：所述電容器基膜(7)為2.8～3.8微米厚度的雙向拉伸聚丙烯薄膜，所述電容器基膜(7)表面凹設有不規則排布的納米級微孔槽(71)。

2.高附著率的電容器基膜制備裝置，其特征在于：該裝置用于對所述電容器基膜(7)表面進行連續處理，以形成如權利要求1所述的納米級微孔槽(71)；

該裝置包括一放卷輥(1)，所述放卷輥(1)用于放置成卷的電容器基膜(7)，所述放卷輥(1)水平放置；

一預熱輥(2)，所述預熱輥(2)用于調整電容器基膜(7)表面溫度，所述預熱輥(2)平行置于所述放卷輥(1)一側上方；

一電暈處理機構(3)，所述電暈處理機構(3)用于對電容器基膜(7)表面進行電暈處理以形成所述的納米級微孔槽(71)，所述電暈處理機構(3)位于所述預熱輥(2)偏離所述放卷輥(1)的一側；

一牽引輥(4)，所述牽引輥(4)用于牽引并張緊從所述電暈處理機構(3)傳輸出來的電容器基膜(7)，所述牽引輥(4)位于所述電暈處理機構(3)一側上方；

一靜電消除器(5)，所述靜電消除器(5)用于消除從所述電暈處理機構(3)傳輸出來的電容器基膜(7)表面的靜電，所述靜電消除器(5)平行設置于所述牽引輥(4)一側；

一收卷輥(6)，所述收卷輥(6)用于對所述靜電消除器(5)處理后的電容器基膜(7)進行纏繞成卷，并對所述放卷輥(1)上的電容器基膜(7)持續牽引拉出，所述收卷輥(6)與所述牽引輥(4)橫向平行設置。

3.根據權利要求2所述的高附著率的電容器基膜制備裝置，其特征在于：所述預熱輥(2)包括中空圓柱狀結構的陶瓷輥體(24)，所述陶瓷輥體(24)外周面套接有硅膠輥套(22)，所述陶瓷輥體(24)兩端面軸向連通對接有管形結構的輥軸(23)；所述預熱輥(2)通過加熱機構(21)產生熱量，所述加熱機構(21)包括內部灌注導熱液的貯液罐(211)，所述貯液罐(211)外部套接有導熱套(212)，所述導熱套(212)通過電線(215)連接有溫控器(214)，所述貯液罐(211)兩端通過導熱管(212)分別連通對接所述輥軸(23)，所述貯液罐(211)內的導熱液漫至所述陶瓷輥體(24)內部容積的一半。

4.根據權利要求2所述的高附著率的電容器基膜制備裝置，其特征在于：所述電暈處理機構(3)包括殼體(31)，所述殼體(31)頂端設置有電暈架(32)，所述電暈架(32)內設置有高頻高壓發生器(33)，所述高頻高壓發生器(33)底端連接有芒刺形結構的電極(34)，所述電暈架(32)上連通設置有臭氧抽風機(35)，所述電極(34)正下方設置有電暈輥(36)，所述電暈輥(36)兩側對稱設置有夾壓輥(37)，兩個所述夾壓輥(37)和所述電暈輥(36)三者通過設置在所述殼體(31)的底座(311)上的升降調節支撐機構(38)同步升降支撐。