[發明專利]高附著率的電容器基膜及其制備裝置、方法

在審

• 申請號: 202110095780.2
• 申請日: 2021-01-25
• 公開（公告）號: CN112768236A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 麥灼棠
• 申請（專利權）人: 安徽旭峰電容器有限公司
• 主分類號: H01G4/18
• 分類號: H01G4/18;H01G4/33;H01G13/00
• 代理公司: 合肥東信智谷知識產權代理事務所(普通合伙) 34143
• 代理人: 朱軍

高附著率的電容器基膜，所述電容器基膜為2.8～3.8微米厚度的雙向拉伸聚丙烯薄膜，所述電容器基膜表面凹設有不規則排布的納米級微孔槽。本發明對雙向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)表面進行電暈處理，以形成不規則排布的納米級微孔槽，增加其表面粗糙度和表面積，提高其表面附著率，保證后期金屬化薄膜的合格率。

技術領域

本發明屬于電容器基膜技術領域，特別涉及高附著率的電容器基膜及其制備裝置、方法。

背景技術

電容器基膜指的是薄膜電容器用的能在其表面蒸鍍一層極薄金屬層的塑料薄膜；雙向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)一般為多層共擠薄膜，是由聚丙烯顆粒經共擠形成片材后，再經縱橫兩個方向的拉伸而制得；雙向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)具有耐熱、耐化學腐蝕、質輕、絕緣性能優良和機械性能較好的特性，廣泛作為電容器基膜使用。

現有的雙向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)表面一般比較光滑，這就導致在蒸鍍時，其表面金屬附著率往往都不高，影響后期金屬化薄膜電容器的正常使用。

發明內容

本發明針對現有技術存在的不足，提供了高附著率的電容器基膜及其制備裝置、方法，具體技術方案如下：

高附著率的電容器基膜，所述電容器基膜為2.8～3.8微米厚度的雙向拉伸聚丙烯薄膜，所述電容器基膜表面凹設有不規則排布的納米級微孔槽。

高附著率的電容器基膜制備裝置，該裝置用于對所述電容器基膜表面進行連續處理，以形成所述的納米級微孔槽；

該裝置包括一放卷輥，所述放卷輥用于放置成卷的電容器基膜，所述放卷輥水平放置；

一預熱輥，所述預熱輥用于調整電容器基膜表面溫度，所述預熱輥平行置于所述放卷輥一側上方；

一電暈處理機構，所述電暈處理機構用于對電容器基膜表面進行電暈處理以形成所述的納米級微孔槽，所述電暈處理機構位于所述預熱輥偏離所述放卷輥的一側；

一牽引輥，所述牽引輥用于牽引并張緊從所述電暈處理機構傳輸出來的電容器基膜，所述牽引輥位于所述電暈處理機構一側上方；

一靜電消除器，所述靜電消除器用于消除從所述電暈處理機構傳輸出來的電容器基膜表面的靜電，所述靜電消除器平行設置于所述牽引輥一側；

一收卷輥，所述收卷輥用于對所述靜電消除器處理后的電容器基膜進行纏繞成卷，并對所述放卷輥上的電容器基膜持續牽引拉出，所述收卷輥與所述牽引輥橫向平行設置。

進一步地，所述預熱輥包括中空圓柱狀結構的陶瓷輥體，所述陶瓷輥體外周面套接有硅膠輥套，所述陶瓷輥體兩端面軸向連通對接有管形結構的輥軸；所述預熱輥通過加熱機構產生熱量，所述加熱機構包括內部灌注導熱液的貯液罐，所述貯液罐外部套接有導熱套，所述導熱套通過電線連接有溫控器，所述貯液罐兩端通過導熱管分別連通對接所述輥軸，所述貯液罐內的導熱液漫至所述陶瓷輥體內部容積的一半。

進一步地，所述電暈處理機構包括殼體，所述殼體頂端設置有電暈架，所述電暈架內設置有高頻高壓發生器，所述高頻高壓發生器底端連接有芒刺形結構的電極，所述電暈架上連通設置有臭氧抽風機，所述電極正下方設置有電暈輥，所述電暈輥兩側對稱設置有夾壓輥，兩個所述夾壓輥和所述電暈輥三者通過設置在所述殼體的底座上的升降調節支撐機構同步升降支撐。

進一步地，所述升降調節支撐機構包括支撐板，所述支撐板上相對間隔穿設有升降組件，兩個所述升降組件之間設置有動力輸入組件，所述動力輸入組件位于所述支撐板下方，所述動力輸入組件通過其兩側的傳動組件與所述升降組件連接；

所述升降組件包括轉動螺桿、固定塊和第一齒輪，所述轉動螺桿豎直穿過所述支撐板，并與所述支撐板通過螺紋配合連接，所述轉動螺桿上下端分別通過軸承與安裝在所述殼體側壁上的固定塊連接，所述轉動螺桿下部軸向固定連接有所述第一齒輪，所述第一齒輪位于所述支撐板下方；