一種離子布植系統(tǒng)以及用于離子布植的氣體運(yùn)輸?shù)姆椒?。離子布植系統(tǒng)包括具有離子源單元的離子布植機(jī)和摻雜劑源氣體供應(yīng)系統(tǒng)。此系統(tǒng)包括位于遠(yuǎn)離離子布植機(jī)的氣箱容器內(nèi)部的摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐，以及用以將摻雜劑源氣體從摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐供應(yīng)到離子源單元的摻雜劑源氣體供應(yīng)管。摻雜劑源氣體供應(yīng)管包括內(nèi)管、包圍內(nèi)管的外管、連接至相應(yīng)的內(nèi)管和外管的第一端的第一管轉(zhuǎn)接器，以及連接至相應(yīng)的內(nèi)管和外管的第二端的第二管轉(zhuǎn)接器。第一管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐，而第二管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到離子源單元。

技術(shù)領(lǐng)域

本揭露涉及離子布植機(jī)的氣體輸送系統(tǒng)及其方法。

背景技術(shù)

離子布植是透過(guò)用賦能離子直接轟擊基板來(lái)將化學(xué)物質(zhì)引入基板的過(guò)程。在半導(dǎo)體制造中，離子布植通常用于將摻雜劑引入到半導(dǎo)體晶片中以改變半導(dǎo)體晶片的電子特性。離子布植在離子布植機(jī)中進(jìn)行。離子布植機(jī)包括用于產(chǎn)生帶正電的離子種類的離子源單元。這些離子種類透過(guò)高電壓提取電位從離子源單元中提取出來(lái)，然后被過(guò)濾以獲得所需的離子種類(即，將要撞擊到靶材(例如，在半導(dǎo)體晶片上的靶材區(qū)域)的離子種類)。將所需的離子種類進(jìn)一步加速并將其引導(dǎo)至用于布植的靶材。

發(fā)明內(nèi)容

依據(jù)本揭露的部分實(shí)施例，提供一種離子布植系統(tǒng)，包含：離子布植機(jī)和摻雜劑源氣體供應(yīng)系統(tǒng)。離子布植機(jī)包含離子源單元。摻雜劑源氣體供應(yīng)系統(tǒng)，包含：摻雜源氣體儲(chǔ)存罐和摻雜劑源氣體供應(yīng)管。摻雜源氣體儲(chǔ)存罐在遠(yuǎn)離離子布植機(jī)的氣箱容器內(nèi)。摻雜劑源氣體供應(yīng)管用以將摻雜劑源氣體從摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐供應(yīng)到離子源單元，摻雜劑源氣體供應(yīng)管包含：內(nèi)管、外管、第一管轉(zhuǎn)接器和第二管轉(zhuǎn)接器。外管包圍內(nèi)管。第一管轉(zhuǎn)接器連接到內(nèi)管和外管中的每一個(gè)的第一端，第一管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐。第二管轉(zhuǎn)接器連接到內(nèi)管和外管中的每一個(gè)的第二端，第二端在第一端對(duì)面，第二管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到離子源單元。

依據(jù)本揭露的部分實(shí)施例，提供一種離子布植系統(tǒng)，包含：離子布植機(jī)、摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐、摻雜劑源氣體供應(yīng)管和壓力感測(cè)器。離子布植機(jī)在殼體內(nèi)部，并且離子布植機(jī)包含離子源單元。摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐位于殼體外部的氣箱容器內(nèi)。摻雜劑源氣體供應(yīng)管用以將摻雜劑源氣體從摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐供應(yīng)到離子源單元，摻雜劑源氣體供應(yīng)管包含：內(nèi)管、外管、第一管轉(zhuǎn)接器和第二管轉(zhuǎn)接器。內(nèi)管用以運(yùn)送摻雜劑源氣體。外管包圍內(nèi)管并用以運(yùn)送惰性氣體。第一管轉(zhuǎn)接器連接到內(nèi)管和外管中的每一個(gè)的第一端，第一管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐。第二管轉(zhuǎn)接器連接到內(nèi)管和外管中的每一個(gè)的第二端，其中第二端在第一端對(duì)面，第二管轉(zhuǎn)接器將內(nèi)管連接到離子源單元。壓力感測(cè)器用以測(cè)量外管中惰性氣體的壓力水平。

依據(jù)本揭露的部分實(shí)施例，提供用于離子布植的氣體運(yùn)輸方法，包含：使用具有預(yù)定壓力的惰性氣體填充摻雜劑源氣體供應(yīng)管的外管；從摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐經(jīng)由摻雜劑源氣體供應(yīng)管的被外管包圍的內(nèi)管將摻雜劑源氣體供應(yīng)到離子布植機(jī)的離子源單元，其中離子布植機(jī)配置在殼體中，摻雜劑源氣體儲(chǔ)存罐配置在位于殼體外部的氣箱容器中；原位監(jiān)測(cè)惰性氣體的壓力；如果惰性氣體的壓力低于預(yù)定閾值，則確定摻雜劑源氣體供應(yīng)管的泄漏。

附圖說(shuō)明

當(dāng)結(jié)合附圖閱讀時(shí)，根據(jù)以下的詳細(xì)描述可以最好地理解本揭露的各方面。應(yīng)理解，根據(jù)行業(yè)中的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐，各種特征未按比例繪制。實(shí)際上，為了討論的清楚，各種特征的尺寸可以任意地增加或減小。

圖1是根據(jù)部分實(shí)施例的離子布植系統(tǒng)的示意圖；

圖2A是根據(jù)部分實(shí)施例的在離子布植系統(tǒng)中，在摻雜劑源氣體供應(yīng)系統(tǒng)中使用的摻雜劑源氣體供應(yīng)管的透視圖；

圖2B是沿圖2A的線B-B’截取的摻雜劑源供應(yīng)管的橫截面圖；

圖3是根據(jù)部分實(shí)施例的用于將摻雜劑源氣體輸送到離子布植系統(tǒng)的離子布植機(jī)的方法的流程圖；

圖4是用于控制離子布植系統(tǒng)的操作的控制單元的方框圖。

【符號(hào)說(shuō)明】

100:離子布植系統(tǒng)