[發明專利]一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備

在審

• 申請號: 202110088284.4
• 申請日: 2021-01-22
• 公開（公告）號: CN112934325A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發明（設計）人: 劉慧
• 申請（專利權）人: 劉慧
• 主分類號: B02C1/14
• 分類號: B02C1/14;B02C23/00
• 代理公司: 北京眾澤信達知識產權代理事務所(普通合伙) 11701
• 代理人: 張艷萍

本發明公開了廢棄陶瓷處理設備技術領域的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，包括底座、機架與加工箱體，所述機架與加工箱體均安裝在底座的頂部外壁上，所述機架頂部外壁固定安裝有電機，且電機底部輸出軸延伸至機架的內腔中并與螺套固定連接，且螺套內腔底端插接有螺桿，且螺桿底端固定安裝有擠壓裝置，裝置中通過滑塊在滑槽的內腔中滑動，使移動塊帶著副壓板可以在主壓板左右兩側上下滑動，避免擠壓裝置下移的位置受到限定，保證擠壓裝置能夠與加工箱體內部的陶瓷碎片充分接觸，提高廢棄陶瓷碎片處理的質量。

技術領域

本發明涉及廢棄陶瓷處理設備技術領域，具體為一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備。

背景技術

在對廢棄的陶瓷碎片進行處理時，需要將陶瓷碎片加工成細小的碎片，現使用處理設備對廢棄的弧形陶瓷碎片進行處理時，一般是將陶瓷碎片加入到箱體中，由壓板下移對陶瓷碎片進行擠壓，將陶瓷碎片加工成細小的碎片，然而在壓板下移對陶瓷碎片進行擠壓的過程中，陶瓷碎片受壓破碎時部分破碎的陶瓷會向外側飛濺，導致加工箱體中左右兩側會堆積的陶瓷碎片，隨著陶瓷碎片逐漸增多，導致壓板會被箱體左右兩側堆積的陶瓷碎片阻擋，使壓板無法與箱體中央底部的陶瓷碎片充分接觸，導致部分陶瓷碎片未被充分擠壓，使廢棄陶瓷碎片處理不均勻，影響處理質量，為此，我們提出一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備。

發明內容

本發明的目的在于提供一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，包括底座、機架與加工箱體，所述機架與加工箱體均安裝在底座的頂部外壁上，所述機架頂部外壁固定安裝有電機，且電機底部輸出軸延伸至機架的內腔中并與螺套固定連接，且螺套內腔底端插接有螺桿，且螺桿底端固定安裝有擠壓裝置。

優選的，所述擠壓裝置包括與螺桿底端固定連接的主壓板，所述主壓板左右兩側外壁均設置有副壓板，所述副壓板頂部外壁固定安裝有移動塊，所述主壓板頂部左右兩側外壁均固定安裝有導向塊，兩組所述導向塊相互遠離的一側外壁均開設有滑槽，兩組所述移動塊相互靠近的一側外壁均固定安裝有滑塊，所述滑塊滑動插在滑槽的內腔中，所述滑塊與滑槽之間固定安裝有伸縮彈簧。

優選的，所述主壓板底部左右兩側外壁與副壓板底部外壁均開設有移動孔，且移動孔內腔滑動插接有移動桿，所述移動桿頂端與移動孔頂部內壁之間固定安裝有收縮彈簧，所述移動桿底端固定安裝有擠壓板。

優選的，所述主壓板左右兩側外壁均開設有安放槽，且安放槽內腔滑動插接有安裝塊，所述安裝塊與安放槽之間固定安裝有推動彈簧，兩組所述安裝塊相互靠近的一側外壁均滑動安裝有導向桿，所述導向桿底端延伸至主壓板的底部外壁，且主壓板與導向桿的連接部位開設有滑動槽，且安放槽頂部內壁開設有安裝孔，兩組所述安裝塊相互遠離的一側外壁均固定安裝有固定塊，兩組所述副壓板相互靠近的一側外壁均開設有固定槽，且固定塊插在固定槽的內腔中，左右兩側所述擠壓板頂部外壁均開設有安裝槽，所述安裝槽內腔滑動安裝有推板，所述推板與安裝槽之間固定安裝有擴張彈簧，且兩組推板相互靠近的一側外壁分別與中央擠壓板左右兩側外壁相貼合。

優選的，所述推板包括與擴張彈簧固定連接的推板本體，所述推板本體頂部外壁螺接有螺紋桿，且螺紋桿底端延伸至推板本體的底部外壁并與擋板轉動連接。

優選的，所述滑槽左右兩側內壁之間的間距從下到上逐漸減小，所述滑塊包括與移動塊外壁固定連接的滑塊本體，所述滑塊本體遠離移動塊的一側外壁開設有存放槽，且存放槽內腔滑動插接有推塊，所述推塊外壁套接有支撐彈簧，且支撐彈簧兩端分別與推塊外壁、存放槽內壁固定連接，且推塊靠近導向塊的一側外壁固定安裝有防滑塊，所述防滑塊遠離推塊的一側外壁與滑槽內壁相貼合。