[發(fā)明專利]一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備

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• 申請日: 2021-01-22
• 公開（公告）號: CN112934325A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設計）人: 劉慧
• 申請（專利權）人: 劉慧
• 主分類號: B02C1/14
• 分類號: B02C1/14;B02C23/00
• 代理公司: 北京眾澤信達知識產權代理事務所(普通合伙) 11701
• 代理人: 張艷萍

1.一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，包括底座(1)、機架(2)與加工箱體(3)，其特征在于：所述機架(2)與加工箱體(3)均安裝在底座(1)的頂部外壁上，所述機架(2)頂部外壁固定安裝有電機，且電機底部輸出軸延伸至機架(2)的內腔中并與螺套固定連接，且螺套內腔底端插接有螺桿，且螺桿底端固定安裝有擠壓裝置(4)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述擠壓裝置(4)包括與螺桿底端固定連接的主壓板(41)，所述主壓板(41)左右兩側外壁均設置有副壓板(42)，所述副壓板(42)頂部外壁固定安裝有移動塊(44)，所述主壓板(41)頂部左右兩側外壁均固定安裝有導向塊(43)，兩組所述導向塊(43)相互遠離的一側外壁均開設有滑槽(46)，兩組所述移動塊(44)相互靠近的一側外壁均固定安裝有滑塊(45)，所述滑塊(45)滑動插在滑槽(46)的內腔中，所述滑塊(45)與滑槽(46)之間固定安裝有伸縮彈簧。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述主壓板(41)底部左右兩側外壁與副壓板(42)底部外壁均開設有移動孔，且移動孔內腔滑動插接有移動桿(48)，所述移動桿(48)頂端與移動孔頂部內壁之間固定安裝有收縮彈簧(49)，所述移動桿(48)底端固定安裝有擠壓板(47)。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述主壓板(41)左右兩側外壁均開設有安放槽，且安放槽內腔滑動插接有安裝塊(412)，所述安裝塊(412)與安放槽之間固定安裝有推動彈簧，兩組所述安裝塊(412)相互靠近的一側外壁均滑動安裝有導向桿(414)，所述導向桿(414)底端延伸至主壓板(41)的底部外壁，且主壓板(41)與導向桿(414)的連接部位開設有滑動槽，且安放槽頂部內壁開設有安裝孔(413)，兩組所述安裝塊(412)相互遠離的一側外壁均固定安裝有固定塊(411)，兩組所述副壓板(42)相互靠近的一側外壁均開設有固定槽，且固定塊(411)插在固定槽的內腔中，左右兩側所述擠壓板(47)頂部外壁均開設有安裝槽(471)，所述安裝槽(471)內腔滑動安裝有推板(472)，所述推板(472)與安裝槽(471)之間固定安裝有擴張彈簧，且兩組推板(472)相互靠近的一側外壁分別與中央擠壓板(47)左右兩側外壁相貼合。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述推板(472)包括與擴張彈簧固定連接的推板本體(4721)，所述推板本體(4721)頂部外壁螺接有螺紋桿(4722)，且螺紋桿(4722)底端延伸至推板本體(4721)的底部外壁并與擋板(4723)轉動連接。

6.根據(jù)權利要求2所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述滑槽(46)左右兩側內壁之間的間距從下到上逐漸減小，所述滑塊(45)包括與移動塊(44)外壁固定連接的滑塊本體(451)，所述滑塊本體(451)遠離移動塊(44)的一側外壁開設有存放槽，且存放槽內腔滑動插接有推塊(453)，所述推塊(453)外壁套接有支撐彈簧(452)，且支撐彈簧(452)兩端分別與推塊(453)外壁、存放槽內壁固定連接，且推塊(453)靠近導向塊(43)的一側外壁固定安裝有防滑塊(454)，所述防滑塊(454)遠離推塊(453)的一側外壁與滑槽(46)內壁相貼合。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種防止接觸不充分的廢棄弧形陶瓷碎片處理設備，其特征在于：所述加工箱體(3)內腔底部設置有托板(5)，所述托板(5)包括與加工箱體(3)內壁滑動連接的主支撐板(52)，所述主支撐板(52)左右兩側外壁均設置有副支撐板(51)，且副支撐板(51)外壁與加工箱體(3)內壁滑動連接，所述加工箱體(3)內腔底部設置有氣囊(53)，且氣囊(53)頂部外壁與托板(5)底部外壁相貼合，且氣囊(53)內腔填充有水。