[發(fā)明專利]一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110073904.7
• 申請(qǐng)日: 2021-01-20
• 公開（公告）號(hào): CN112830556A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊洋;黃建陽;年夫久;席麗麗;孫亞輝;石勇;劉建軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州融和福天寶環(huán)保科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): C02F1/461
• 分類號(hào): C02F1/461;C25C1/12;C02F101/16;C02F101/20;C02F103/16
• 代理公司: 北京鵬帆慧博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11903
• 代理人: 劉琳

本發(fā)明提供了一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法，屬于污水處理技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明所述氰化鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陽極室，所述酸性鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陰極室，以惰性材料為陽極，以銅為陰極，進(jìn)行電解；所述隔膜電解槽的隔膜為陰離子交換膜。本發(fā)明提供的方法可以同時(shí)處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水，在氧化分解氰化鍍銅廢水中的氰化物時(shí)，同時(shí)可回收酸性鍍銅廢水中的銅，簡單高效且廢水中銅的回收率高，回收得到的銅的純度高。本發(fā)明回收的銅金屬純度達(dá)到95％以上，廢水中的氰化物及銅的去除率在70％以上，適合工業(yè)化應(yīng)用。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法。

背景技術(shù)

鍍銅是在電鍍工業(yè)中使用最廣泛的一種預(yù)鍍層，包括錫焊件、鉛錫合金、鋅壓鑄件在鍍鎳、金、銀之前都要鍍銅，用于改善鍍層結(jié)合力。銅鍍層是重要的防護(hù)裝飾性鍍層銅/鎳/鉻體系的組成部分，柔韌而孔隙率低的銅鍍層，對(duì)于提高鍍層間的結(jié)合力和耐蝕性起重要作用。目前使用最多的鍍銅溶液是氰化物鍍液和硫酸鹽鍍液。基于鍍液成分的不同，可將含銅廢水分為氰化鍍銅及酸性鍍銅廢水。

由于兩種含銅電鍍廢水成分迥異，兩種廢水的處理方法也各不相同。氰化鍍銅廢水的常規(guī)處理方法為氧化法，氧化劑通常為次氯酸鈉或漂白粉，在堿性條件下破氰，將廢水中的絡(luò)合銅離子轉(zhuǎn)化為不溶的氫氧化銅沉淀；酸性鍍銅廢水的處理方法較為簡單，加入液堿或石灰乳將廢水中的銅離子轉(zhuǎn)為不溶的氫氧化銅沉淀即可。

從含銅電鍍廢水中回收銅的方法主要有兩種，一種是以銅化合物的形式將銅從廢水中分離，將溶液中的銅或絡(luò)合銅離子轉(zhuǎn)化為氫氧化銅或硫化銅沉淀從廢水中分離。專利201810381168.X提到一種利用硫化物沉淀法處理含銅電鍍廢水并回收銅的方法，先將銅離子轉(zhuǎn)為為不溶的硫化銅，再對(duì)硫化銅進(jìn)行綜合利用。沉淀法在實(shí)際應(yīng)用過程中有兩個(gè)弊端，一個(gè)就是沉淀過程不易控制，生成的絮體細(xì)小，不易沉降。另一個(gè)弊端就是沉淀法無選擇性，溶液中的其他離子如鐵、鎳及鋅等也會(huì)進(jìn)入渣中，造成渣成分復(fù)雜，利用價(jià)值低。另一種回收銅的方法是以銅單質(zhì)的方式進(jìn)行回收，將溶液中的銅離子還原成銅單質(zhì)，常用的還原方式包括電還原或者藥劑還原，還原劑包括鐵粉、鋅粉、甲醛等。專利201210182220.1提到電解法從含銅電鍍廢水中回收銅的方法，該方法使用的是昂貴的鉑電極，并且由于廢水中加入了氯化鈉和氯化鉀，電解時(shí)有氯氣逸出，污染操作環(huán)境。

由上述可知，現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于氰化鍍銅廢水、酸性鍍銅廢水以及在含銅廢水中回收銅是分別進(jìn)行處理的，效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明目的在于提供一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法，本發(fā)明提供的方法可以同時(shí)處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水，同時(shí)可回收酸性鍍銅廢水中的銅，簡單高效且廢水中銅的回收率高，回收得到的銅的純度高。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法，所述氰化鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陽極室，所述酸性鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陰極室，以惰性材料為陽極，以銅為陰極，進(jìn)行電解；所述隔膜電解槽的隔膜為陰離子交換膜。

優(yōu)選地，所述氰化鍍銅廢水包括氰化鍍銅的報(bào)廢槽液和/或常規(guī)漂洗水，所述氰化鍍銅廢水中銅離子濃度為500～2000mg/L，氰離子的濃度為500～5000mg/L。

優(yōu)選地，所述酸性鍍銅廢水包括酸性硫酸鹽鍍銅的報(bào)廢槽液和/或常規(guī)漂洗水，所述酸性鍍銅廢水中銅離子的濃度為500～10000mg/L。

優(yōu)選地，所述惰性材料為鈦涂二氧化鉛、鈦涂釕銥、鈦涂鉭銥或石墨，所述銅為銅板或銅網(wǎng)。

優(yōu)選地，所述電解過程中電流密度為50A/m²～500A/m²。

優(yōu)選地，所述電解過程中氰化鍍銅廢水的pH值為10～13。