[發(fā)明專利]一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110073904.7
• 申請日: 2021-01-20
• 公開（公告）號: CN112830556A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊洋;黃建陽;年夫久;席麗麗;孫亞輝;石勇;劉建軍
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州融和福天寶環(huán)保科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;C25C1/12;C02F101/16;C02F101/20;C02F103/16
• 代理公司: 北京鵬帆慧博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11903
• 代理人: 劉琳

1.一種聯(lián)合處理氰化鍍銅廢水和酸性鍍銅廢水的方法，其特征在于，所述氰化鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陽極室，所述酸性鍍銅廢水位于隔膜電解槽的陰極室，以惰性材料為陽極，以銅為陰極，進(jìn)行電解；所述隔膜電解槽的隔膜為陰離子交換膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述氰化鍍銅廢水包括氰化鍍銅的報(bào)廢槽液和/或常規(guī)漂洗水，所述氰化鍍銅廢水中銅離子濃度為500～2000mg/L，氰離子的濃度為500～5000mg/L。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述酸性鍍銅廢水包括酸性硫酸鹽鍍銅的報(bào)廢槽液和/或常規(guī)漂洗水，所述酸性鍍銅廢水中銅離子的濃度為500～10000mg/L。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述惰性材料為鈦涂二氧化鉛、鈦涂釕銥、鈦涂鉭銥或石墨，所述銅為銅板或銅網(wǎng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述電解過程中電流密度為50A/m²～500A/m²。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述電解過程中氰化鍍銅廢水的pH值為10～13。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述電解過程中酸性鍍銅廢水的pH值為0.5～2。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述電解過程中氰化鍍銅廢水在陽極室電解的時(shí)間按照公式I計(jì)算：

t₁＝C₁V₁/k₁I 公式I

所述公式I中t₁為氰化鍍銅廢水在陽極室電解的時(shí)間，單位為h；C₁為氰化鍍銅廢水中氰離子的濃度，單位為g/L；V₁為氰化鍍銅廢水的體積，單位為L；k₁代表氰離子的電解常數(shù)，k₁的值為0.15～0.19g/Ah；I為電解過程中的電流，單位為A。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述電解過程中酸性鍍銅廢水在陰極室電解時(shí)間按照公式II計(jì)算：

t₂＝C₂V₂/k₂I 公式II

所述公式II中，t₂為酸性鍍銅廢水在陰極室電解的時(shí)間，單位為h；C₂為酸性鍍銅廢水中銅離子的濃度，單位為g/L；V₂為酸性鍍銅廢水的體積，單位為L；k₂為銅離子的電解常數(shù)，k₂值為0.8～1.42g/Ah；I為電解過程中的電流，單位為A。