[發(fā)明專利]曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110069085.9
• 申請日: 2021-01-19
• 公開（公告）號: CN113138542A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設計）人: 安范模;嚴永欽;韓新錫
• 申請（專利權(quán)）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備，所述曝光機用光照射裝置可提供一種如下的曝光機用光照射裝置，其包括：支持部；多個發(fā)光部，分別各別地設置在所述支持部的一面，且在外周面設置有生成光的多個發(fā)光體；以及多個反射部，分別以與所述多個發(fā)光部分別對應的方式各別地設置在所述支持部的所述一面，所述多個反射部被分為反射光的主光軸是水平的第一反射組與反射光的主光軸是傾斜的第二反射組。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備，詳細來說涉及一種使用多個發(fā)光二極管(light emitting diode，LED)用于制造半導體元件或印刷電路基板、液晶顯示基板等的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備。

背景技術(shù)

以往，作為用于曝光印刷電路基板、液晶顯示基板等的光源，大部分使用幾千瓦(kW)至幾十千瓦的大型高壓水銀燈。使用高壓水銀燈的曝光機用光源已經(jīng)使用了很長時間。

然而，以往使用高壓水銀燈的曝光機用光源存在如下問題：壽命短、電力耗損大、需要對燈進行預熱的預備時間，且在用于由光源損壞引起的更換的時間期間不能曝光，從而導致?lián)p失，且必須需要與高溫對應的大型冷卻設備，為了增加到達照射區(qū)域的光的光量及照度而要求光源的大型化，且即使在不需要曝光的時間也不能開關(guān)燈。

近來，代替以往的高壓水銀燈而使用發(fā)光二極管(LED)作為新光源的曝光機用光照射裝置已經(jīng)被引入。與水銀燈等相比，發(fā)光二極管具有發(fā)光效率高、節(jié)電且發(fā)熱少的特征，從而可實現(xiàn)降低維護成本。另外，由于與水銀燈相比，發(fā)光二極管的壽命很長，因此可降低更換帶來的成本，且不存在由于劣化等因素而導致破裂的危險性。

然而，在專利文獻0001中，在板形部件上二維排列有多個LED來構(gòu)成曝光機用光源，但是為了獲得足夠的光量，仍然必須在二維平面上排列大量的LED，且為了使所有LED通過光均質(zhì)部，必然會使曝光機用光源與光均質(zhì)部之間的距離隔開規(guī)定距離以上，且因此具有曝光設備變得大型化問題。

[現(xiàn)有技術(shù)文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本公開專利公報2004-335952(2004.11.25)

發(fā)明內(nèi)容

[發(fā)明所要解決的問題]

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備可將曝光機用光照射裝置與光均質(zhì)部之間的距離布置在規(guī)定距離以內(nèi)，從而可將曝光機用光照射裝置及曝光設備小型化。

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備可提供一種通過三維排列多個發(fā)光體來獲得足夠的光量，同時在上、下及左、右方向?qū)崿F(xiàn)小型化的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備。

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備可通過布置與三維排列的多個發(fā)光體對應的反射面來提供垂直于照射區(qū)域的平行光。

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備可將由無法到達照射區(qū)域的射光產(chǎn)生的損失光最小化。

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備可將照射區(qū)域中可能產(chǎn)生的陰影區(qū)最小化，且可具有均勻的照度。

[解決問題的技術(shù)手段]

根據(jù)本發(fā)明一實施例的曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備，可提供一種曝光機用光照射裝置，包括：支持部；多個發(fā)光部，分別各別地設置在所述支持部的一面，且在外周面設置有生成光的多個發(fā)光體；以及多個反射部，分別以與所述多個發(fā)光部分別對應的方式各別地設置在所述支持部的所述一面，所述多個反射部被分為反射光的主光軸是傾斜的第一反射組與反射光的主光軸是水平的第二反射組。