[發明專利]曝光機用光照射裝置及包括其的曝光設備

在審

• 申請號: 202110069085.9
• 申請日: 2021-01-19
• 公開（公告）號: CN113138542A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 安范模;嚴永欽;韓新錫
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種曝光機用光照射裝置，其特征在于，包括：

支持部；

多個發光部，分別各別地設置在所述支持部的一面，且在外周面設置有生成光的多個發光體；以及

多個反射部，分別以與所述多個發光部分別對應的方式各別地設置在所述支持部的所述一面，

所述多個反射部被分為反射光的主光軸是傾斜的第一反射組與反射光的主光軸是水平的第二反射組。

2.根據權利要求1所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述第一反射組與所述第二反射組相比在所述支持部的所述一面中較中心部分設置在外廓部分處。

3.根據權利要求1所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述反射光的主光軸的方向是將從一個反射部反射的反射光的光軸的方向進行平均的值。

4.根據權利要求1所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述多個發光部及所述多個反射部分別以能夠各別地裝卸的方式結合到所述支持部。

5.根據權利要求1所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述多個反射部中的每一者包括：

多個反射面，分別與設置在所述多個發光部中的一者的所述多個發光體對應以反射光；以及

反射部本體部，以一體或能夠裝卸的方式配置所述多個反射面。

6.根據權利要求5所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述多個反射面由拋物線形、橢圓、自由曲面中的至少一種形成。

7.根據權利要求1所述的曝光機用光照射裝置，其特征在于，

所述支持部其本身為水冷式冷卻部件，或通過附著在所述支持部的后面的支持部冷卻部來冷卻。

8.一種曝光設備，包括曝光機用光照射裝置，其特征在于，所述曝光設備包括：

曝光機用光照射裝置，生成光；

光圈，去除所述光中不需要的光；

光均質部，使所述光變均質；

至少一個鏡，用于將通過所述光均質部的光變為平行光；

掩模臺，支持使所述平行光通過的掩模；以及

照射對象臺，支持通過所述掩模的光所照射的照射對象，

所述曝光機用光照射裝置包括：支持部；多個發光部，分別各別地設置在所述支持部的一面，且在外周面設置有生成光的多個發光體；以及多個反射部，分別以與所述多個發光部分別對應的方式各別地設置在所述支持部的所述一面，

所述多個反射部被分為反射光的主光軸是傾斜的第一反射組與反射光的主光軸是水平的第二反射組。