[發(fā)明專利]顯示設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110062238.7
• 申請日: 2016-12-19
• 公開（公告）號: CN112909199A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔允瑄;金武謙;李相祚;崔原碩
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/50;H01L51/00;H01L27/32
• 代理公司: 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 焦立波;王琦

一種顯示設(shè)備，包括：基板，該基板包括介于第一區(qū)域與第二區(qū)域之間的彎曲區(qū)域并且被配置為在彎曲區(qū)域處被彎曲；顯示部，在第一區(qū)域中的基板上方；保護(hù)膜，在基板下方并且包括保護(hù)膜基底和粘合層，其中，保護(hù)膜基底具有對應(yīng)于彎曲區(qū)域的開口或者保護(hù)膜基底對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分，并且其中，粘合層介于基板與保護(hù)膜基底之間并且在第一區(qū)域、彎曲區(qū)域以及第二區(qū)域上方形成整體，并且粘合層的對應(yīng)于彎曲區(qū)域的至少一部分具有與粘合層的對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分的硬度不同的硬度。

本申請是申請日為2016年12月19日、申請?zhí)枮?01611175541.3、發(fā)明名稱為“顯示設(shè)備”的發(fā)明專利申請的分案申請。

相關(guān)申請的交叉引證

本申請要求于2016年3月21日向韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第10-2016-0033378號的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，其公開內(nèi)容通過引證全部結(jié)合于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的方面涉及一種顯示設(shè)備。

背景技術(shù)

通常，顯示設(shè)備包括在基板上的顯示部。顯示設(shè)備通過使其至少一部分彎曲，可以提高在各個角度的可視性或者減小非顯示區(qū)域的面積。

然而，在常規(guī)顯示設(shè)備中，在制造彎曲顯示設(shè)備的過程期間出現(xiàn)缺陷或者降低了顯示設(shè)備的壽命或者導(dǎo)致過高的制造成本。

發(fā)明內(nèi)容

一個或多個實施方式的方面涉及一種顯示設(shè)備，其可在降低制造成本的同時降低在制造過程期間的缺陷率。然而，該特征僅僅是示例性的并且本發(fā)明構(gòu)思的范圍不由此限制。

額外的方面將在隨后的描述中部分闡述，以及部分將從描述中顯而易見或者可以通過呈現(xiàn)的實施方式的實踐獲悉。

根據(jù)一個或多個實施方式，提供了一種顯示設(shè)備，包括：基板，該基板包括介于第一區(qū)域與第二區(qū)域之間的彎曲區(qū)域并且被配置為在彎曲區(qū)域處被彎曲；顯示部，在第一區(qū)域中的基板上方；保護(hù)膜，在基板下方并且包括保護(hù)膜基底和粘合層，其中，保護(hù)膜基底具有對應(yīng)于彎曲區(qū)域的開口，保護(hù)膜基底對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分，并且其中，粘合層介于基板與保護(hù)膜基底之間并且在第一區(qū)域、彎曲區(qū)域以及第二區(qū)域上方形成整體，并且粘合層的對應(yīng)于彎曲區(qū)域的至少一部分具有與粘合層的對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分的硬度不同的硬度。

在實施方式中，粘合層的對應(yīng)于彎曲區(qū)域的至少一部分具有比粘合層的對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分的硬度更大的硬度。

在實施方式中，粘合層包括在從彎曲區(qū)域的中心到第一區(qū)域的中心的方向上沿著粘合層具有減小的硬度的部分或者具有增加的粘合力的部分。

在實施方式中，粘合層的對應(yīng)于第二區(qū)域的部分具有與粘合層的對應(yīng)于彎曲區(qū)域的部分的硬度相同的硬度。

在實施方式中，粘合層的與彎曲區(qū)域和第二區(qū)域?qū)?yīng)的部分具有比粘合層的對應(yīng)于第一區(qū)域的至少一部分的硬度更大的硬度。

在實施方式中，粘合層包括在從彎曲區(qū)域的中心到第一區(qū)域的中心的方向上沿著粘合層具有減小的硬度的部分或者具有增加的粘合力的部分。

在實施方式中，顯示設(shè)備進(jìn)一步包括在保護(hù)膜基底的對應(yīng)于顯示部的部分下方的遮光層，遮光層對應(yīng)于顯示部的至少一部分。

在實施方式中，遮光層被配置為屏蔽紫外線。

在實施方式中，基板被配置為被彎曲使得基板在第一區(qū)域中的下表面的部分面對基板在第二區(qū)域中的下表面的至少一部分，保護(hù)膜基底對應(yīng)于第一區(qū)域和第二區(qū)域并且具有對應(yīng)于彎曲區(qū)域的開口，并且遮光層接觸保護(hù)膜基底的對應(yīng)于第一區(qū)域的部分和保護(hù)膜基底的對應(yīng)于第二區(qū)域的部分兩者。