[發明專利]一種激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統

在審

• 申請號: 202110057083.8
• 申請日: 2021-01-15
• 公開（公告）號: CN112857695A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 王國棟;馬儒坤;錢都;章思;黃俊;徐秋賦;張航
• 申請（專利權）人: 合肥工業大學
• 主分類號: G01M3/20
• 分類號: G01M3/20
• 代理公司: 安徽省合肥新安專利代理有限責任公司 34101
• 代理人: 何梅生

1.一種激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統,其特征在于：所述檢漏系統包括：激光陀螺檢漏裝置、激光陀螺充氣裝置及真空排氣機組(11)，氦質譜檢漏時用噴吹法，可精確定位漏孔的位置，檢漏精度可達10^-12pa.m³/s量級；所述激光陀螺充氣裝置可向激光陀螺(1)內充入一定比例一定壓強的工作氣體。

2.根據權利要求1所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統,其特征在于：所述激光陀螺充氣裝置、真空排氣機組(11)通過三通管(7)與激光陀螺(1)相連接，與所述三通管(7)相連接的三條管路上分別設有第一截止閥(6)、第二截止閥(8)和抽氣閥(9)。

3.根據權利要求1所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述激光陀螺充氣裝置包括氖氣瓶(15)、氦氣瓶(16)、混氣室(12)以及與激光陀螺(1)相連接的進氣管；所述氖氣瓶(15)和氦氣瓶(16)分別通過管道直接連接在混氣室(12)上。

4.根據權利要求3所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述氖氣瓶(15)和氦氣瓶(16)的流量通過安裝在與混氣室(12)相連的管道上的第三截止閥(13)、第四截止閥(18)以及第一流量計(14)和第二流量計(19)進行檢測和控制。

5.根據權利要求3所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述混氣室上安裝有第二真空計(19)，混氣室(12)與激光陀螺(1)的連接通過第二截止閥(8)進行控制。

6.根據權利要求3所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述混氣室(12)通過三通管(7)與激光陀螺進氣管相連，進氣管經法蘭(4)轉接直徑為6mm的細管(3)，細管(3)與焊接在激光陀螺的充氣口上的銅管(2)焊接在一起實現氣路的導通。

7.根據權利要求3所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：充氣結束后通過掐斷激光陀螺(1)上焊接的銅管(2)實現激光陀螺(1)的封裝。

8.根據權利要求1所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述激光陀螺檢漏裝置包括檢漏儀(10)和第一真空計(5)。

9.根據權利要求8所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述檢漏儀(10)為氦質譜檢漏儀。

10.根據權利要求1所述的激光陀螺穩定充氣和高精度檢漏系統，其特征在于：所述真空排氣機組(11)由機械泵和分子泵組成，機械泵與分子泵之間設有電磁閥。