[發明專利]顯示裝置的制造裝置及制造方法在審
| 申請號: | 202110056085.5 | 申請日: | 2021-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN114068626A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發明(設計)人: | 林東彥;具光駿;金楨穆;金泳植;金泂允;樸原雄 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京金宏來專利代理事務所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 樸英淑 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 制造 裝置 方法 | ||
本發明提供一種顯示裝置的制造裝置及制造方法。為了提高顯示裝置的制造品質及產量,顯示裝置的制造裝置,包括:工作臺,支承基板;移動部,使工作臺沿著第一方向移動;激光束源,射出原始激光束;光學單元,配置在原始激光束的行進路徑上,并將原始激光束加工成在與第一方向交叉的第二方向上延伸的線激光束(line laser beam);光束阻斷單元,能夠沿著第二方向移動,并且能夠阻斷線激光束中的一部分;以及光束消除單元,消除被光束阻斷單元阻斷的線激光束的一部分。
技術領域
本發明涉及顯示裝置的制造裝置及制造方法。
背景技術
通常,有機發光顯示裝置等顯示裝置的情況下,需要經過在基板上形成多個薄膜晶體管的過程。薄膜晶體管具備半導體層、源電極、漏電極以及柵電極等,半導體層可以包括將非晶硅層結晶化的多晶硅層。
在這種顯示裝置的制造過程中,為了形成多晶硅層而將非晶硅層結晶化,為此,主要利用向非晶硅層照射激光束來將其變換成多晶硅層的激光退火方法。此時,為了將大面積的非晶硅層變換成多晶硅層,利用在一方向上延伸的線激光束(line laser beam)來作為向非晶硅層照射的激光束,,在移動形成有非晶硅層的基板的同時多次照射線激光束。
但是,在利用這樣形成的多晶硅層制造顯示裝置時,會在由顯示裝置呈現的圖像上產生條紋污漬的問題。
發明內容
本發明用于解決包括如上所述的問題在內的多個問題,目的在于,提供一種可以提高顯示裝置的制造品質以及產量的顯示裝置的制造裝置。但是,這種課題是例示,并不由此限定本發明的范圍。
根據本發明的一觀點,提供一種顯示裝置的制造裝置,包括:工作臺,支承基板;移動部,使所述工作臺沿著第一方向移動;激光束源,射出原始激光束;光學單元,配置在所述原始激光束的行進路徑上,并將所述原始激光束加工成在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸的線激光束(line laser beam);光束阻斷單元,能夠沿著所述第二方向移動,并且能夠阻斷所述線激光束中的一部分;以及光束消除單元,消除被所述光束阻斷單元阻斷的所述線激光束的一部分。
根據本實施例,可以是,所述光束阻斷單元包括反射所述線激光束的一部分的反射面,所述光束阻斷單元包括被配置成彼此遠離且彼此平行的第一光束阻斷單元和第二光束阻斷單元。
根據本實施例,可以是,所述光束阻斷單元由多級構成,并且能夠沿著所述第二方向伸縮。
根據本實施例,可以是,隨著所述光束阻斷單元在所述第二方向上進行直線運動,確定所述線激光束的阻斷區域。
根據本實施例,可以是,所述光束消除單元包括:開口部,收納被所述光束阻斷單元的所述反射面反射的所述線激光束的一部分;以及內部空間,由多次反射被收納的所述線激光束的一部分的內表面定義該內部空間。
根據本實施例,可以是,所述內表面包括凹凸。
根據本實施例,可以是,所述光束消除單元包括彼此對應的第一消除板和第二消除板,所述第一消除板和所述第二消除板形成銳角,使得所述第一消除板與所述第二消除板之間的空間越是朝向一方向越減少。根據本實施例,可以是,所述第一消除板和所述第二消除板的彼此相向的表面包括凹凸。
根據本實施例,可以是,還包括:冷卻單元,配置在所述光束消除單元的外側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





