[發明專利]顯示裝置的制造裝置及制造方法在審
| 申請號: | 202110056085.5 | 申請日: | 2021-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN114068626A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發明(設計)人: | 林東彥;具光駿;金楨穆;金泳植;金泂允;樸原雄 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京金宏來專利代理事務所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 樸英淑 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 制造 裝置 方法 | ||
1.一種顯示裝置的制造裝置,包括:
工作臺,支承基板;
移動部,使所述工作臺沿著第一方向移動;
激光束源,射出原始激光束;
光學單元,配置在所述原始激光束的行進路徑上,并將所述原始激光束加工成在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸的線激光束;
光束阻斷單元,能夠沿著所述第二方向移動,并且能夠阻斷所述線激光束中的一部分;以及
光束消除單元,消除被所述光束阻斷單元阻斷的所述線激光束的一部分。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述光束阻斷單元包括反射所述線激光束的一部分的反射面,所述光束阻斷單元包括被配置成彼此遠離且彼此平行的第一光束阻斷單元和第二光束阻斷單元。
3.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述光束阻斷單元由多級構成,并且能夠沿著所述第二方向伸縮。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
隨著所述光束阻斷單元在所述第二方向上進行直線運動,確定所述線激光束的阻斷區域。
5.根據權利要求2所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述光束消除單元包括:
開口部,收納被所述光束阻斷單元的所述反射面反射的所述線激光束的一部分;以及
內部空間,由多次反射被收納的所述線激光束的一部分的內表面定義該內部空間。
6.根據權利要求5所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述內表面包括凹凸。
7.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述光束消除單元包括彼此對應的第一消除板和第二消除板,
所述第一消除板和所述第二消除板形成銳角,使得所述第一消除板與所述第二消除板之間的空間越是朝向一方向越減少。
8.根據權利要求7所述的顯示裝置的制造裝置,其中,
所述第一消除板和所述第二消除板的彼此相向的表面包括凹凸。
9.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造裝置,還包括:
冷卻單元,配置在所述光束消除單元的外側。
10.一種顯示裝置的制造方法,包括:
在基板上形成非晶硅層的步驟;
使形成有所述非晶硅層的所述基板在與所述基板的一面平行的虛擬的平面上以第一角度旋轉的步驟;
在使所述基板沿著第一方向移動的期間,向所述非晶硅層上照射沿著與所述第一方向交叉的第二方向延伸的線激光束的步驟;
反射所述線激光束的一部分使得所述線激光束的一部分無法到達所述基板的步驟;以及
消除被反射的所述線激光束的一部分的步驟,
消除被反射的所述線激光束的一部分的步驟包括:
通過光束消除單元的開口部使所述線激光束的一部分入射至所述光束消除單元的內部空間的步驟;
使所述線激光束的一部分在定義所述光束消除單元的所述內部空間的內表面反射多次的步驟;以及
由所述光束消除單元吸收所述線激光束的一部分的步驟,
使所述基板在所述第一方向上移動,從而增加或減少所述線激光束的一部分被反射的反射區域的面積。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





