[發明專利]PCB板表面缺陷檢測裝置及方法有效
| 申請號: | 202110055145.1 | 申請日: | 2021-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN112819756B | 公開(公告)日: | 2023-07-11 |
| 發明(設計)人: | 范洪輝;吳濤;周紅燕;陳林凱 | 申請(專利權)人: | 江蘇理工學院 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06V10/762;G06V10/82;G06N3/0464;G06N3/08 |
| 代理公司: | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 顧翰林 |
| 地址: | 213001 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | pcb 表面 缺陷 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種PCB板表面缺陷檢測裝置,其特征在于,包括:
圖片采集模塊,用于采集待檢測PCB板圖片;
表面缺陷檢測模塊,用于將所述圖片采集模塊獲取的PCB板圖片送入預訓練的表面缺陷檢測模型,對所述PCB板中可能存在的表面缺陷進行檢測;所述表面缺陷檢測模型為改進的YOLOv3網絡結構,所述YOLOv3網絡結構中主干網絡為改進后的EfficientNet網絡,所述EfficientNet網絡中包括多個用于提取特征的MBConvBlock結構,在每個所述MBConvBlock結構中:采用1×1的卷積對輸入的數據增加維度之后,進一步對其進行N×N的卷積操作,并利用注意力機制為每個通道添加相應的權值實現特征提取,最后利用1×1的卷積進行維度降低操作并添加相應的殘差邊;
所述表面缺陷檢測模型中包括依次連接的Steam結構、第一MBConvBlock結構、第二MBConvBlock結構、第三MBConvBlock結構、第四MBConvBlock結構、第五MBConvBlock結構、第六MBConvBlock結構及第七MBConvBlock結構;
還包括:
依次連接的第一特征融合層、第一卷積結構、3×3的第一卷積層及1×1的第五卷積層,其中,第一特征融合層的輸入與第二MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的第二特征融合層、第二卷積結構、3×3的第二卷積層及1×1的第六卷積層,其中,第二特征融合層的輸入與第三MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的第三特征融合層、第三卷積結構、3×3的第三卷積層及1×1的第七卷積層,其中,第三特征融合層的輸入與第五MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的第四卷積結構、3×3的第四卷積層及1×1的第八卷積層,其中,第四卷積結構的輸入與第七MBConvBlock結構的輸出連接;或,依次連接的第一特征融合層、第一卷積結構、3×3的第一Inception結構及1×1的第五卷積層,其中,第一特征融合層的輸入與第二MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的第二特征融合層、第二卷積結構、3×3的第二Inception結構及1×1的第六卷積層,其中,第二特征融合層的輸入與第三MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的第三特征融合層、第三卷積結構、3×3的第三Inception結構及1×1的第七卷積層,其中,第三特征融合層的輸入與第五MBConvBlock結構的輸出連接;依次連接的SPP結構、第四卷積結構、3×3的第四Inception結構及1×1的第八卷積層,其中,SPP結構的輸入與第七MBConvBlock結構的輸出連接;
還包括:
第一卷積及上采樣層,輸入與第四卷積結構的輸出連接,輸出與第三特征融合層的輸入連接;
第二卷積及上采樣層,輸入與第三卷積結構的輸出連接,輸出與第二特征融合層的輸入連接;及
第三卷積及上采樣層,輸入與第二卷積結構的輸出連接,輸出與第一特征融合層的輸入連接。
2.如權利要求1所述的PCB板表面缺陷檢測裝置,其特征在于,所述MBConvBlock結構包括依次連接的:1×1的第一卷積層、第一批歸一化層、第一Swish激活函數層、3×3的第一深度可分離卷積層和5×5的第二深度可分離卷積層、第二批歸一化層、第二Swish激活函數層、全局平均池化層、1×1的第二卷積層、第三Swish激活函數層、1×1的第三卷積層、sigmod激活函數層、1×1的第四卷積層及第三批歸一化層,其中,1×1的第一卷積層的輸入作為MBConvBlock結構的輸入,第三批歸一化層的輸出作為MBConvBlock結構的輸出,3×3的第一深度可分離卷積層和5×5的第二深度可分離卷積層分別與第一Swish激活函數層的輸出連接,1×1的第四卷積層的輸入分別與第二Swish激活函數層和sigmod激活函數層的輸出連接,且1×1的第一卷積層的輸入與第三批歸一化層的輸出連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇理工學院,未經江蘇理工學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110055145.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





