[發(fā)明專利]一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110045397.6
• 申請(qǐng)日: 2021-01-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112387707B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王偉軼;林偉;林超;周榮梵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都路維光電有限公司
• 主分類號(hào): B08B5/02
• 分類號(hào): B08B5/02;B08B13/00
• 代理公司: 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220
• 代理人: 林菲菲

本發(fā)明涉及掩模版輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法。清除裝置包括支座，支座的一側(cè)豎直設(shè)置兩根立柱，兩根立柱并列平行，兩根立柱上均設(shè)有可沿立柱滑動(dòng)的斜臂，兩根斜臂懸伸端朝遠(yuǎn)離立柱方向延伸的同時(shí)朝遠(yuǎn)離支座的方向延伸，兩根斜臂相對(duì)的側(cè)面之間設(shè)有可延斜臂滑動(dòng)的橫桿，橫桿上設(shè)置能進(jìn)行檢測(cè)和清楚作業(yè)的功能模塊，功能模塊可延橫桿滑動(dòng)。利用該清除裝置及清除方法，在檢查及清除膜面微粒時(shí)不會(huì)劃傷膜面或帶來(lái)微粒殘留，通過(guò)鏡頭掃描識(shí)別、噴槍姿態(tài)調(diào)控、壓力適配，實(shí)現(xiàn)安全、迅捷、準(zhǔn)確地清除作業(yè)，不僅避免了膜面二次污染，還提高了產(chǎn)品曝光良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及掩模版輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法。

背景技術(shù)

掩模版又稱光掩模版、光罩（Photo mask），由石英玻璃作為基板襯底，首先在石英玻璃基板上鍍上一層金屬鉻層，然后在鉻層上面涂覆光阻（又稱光刻膠，一種感光材料，在特定波長(zhǎng)光的照射下其化學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生改變），把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過(guò)電子激光設(shè)備使光阻曝光，被曝光的區(qū)域通過(guò)光阻顯影、鉻層蝕刻后再形成與設(shè)計(jì)圖一樣的電路圖形，從而成為類似曝光后的底片的光掩膜母版。近年來(lái)隨著平板顯示、半導(dǎo)體芯片、電路板等行業(yè)的升級(jí)換代，對(duì)下游產(chǎn)品的要求也越來(lái)越高，而光掩模版廣泛用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，決定了下游產(chǎn)品的精度和質(zhì)量。

目前，掩模版生產(chǎn)主要集中G6規(guī)格及以上，其掩模版尺寸主要為800*920mm，800*960mm，850*1200mm，1220*1400mm，1620*1780mm等尺寸。在掩模版制造工藝中，光阻涂布、光阻曝光以及顯影蝕刻等是影響掩模版制造精度的關(guān)鍵因素。其中，光阻曝光是整個(gè)掩模版制造工藝的核心，該系統(tǒng)包含加載機(jī)、傳送機(jī)、版架以及曝光機(jī)等。其中版架的作用一方面是實(shí)現(xiàn)掩模版半自動(dòng)進(jìn)入曝光機(jī)室內(nèi)，保證掩模版曝光前的絕對(duì)安全；另一方面，版架可以方便光阻曝光前對(duì)涂覆好光阻的掩模版膜面進(jìn)行檢查，即掩模版在版架上呈斜向上方向擺放，人為通過(guò)綠光燈和噴槍對(duì)掩模版光阻膜面微粒進(jìn)行檢查及清除。干凈的掩模版膜面在曝光時(shí)，可以減少曝光過(guò)程中產(chǎn)生的缺陷，并有效提高掩模版曝光質(zhì)量。

但目前使用綠光燈和噴槍對(duì)掩模版光阻膜面微粒進(jìn)行手動(dòng)檢查及清除時(shí)，需要一人同時(shí)左手持綠光燈右手拿噴槍進(jìn)行作業(yè)。其中，綠光燈較重不適合長(zhǎng)時(shí)間作業(yè)，且光罩膜版面大，綠光燈的接線長(zhǎng)，增加了掩模版膜面的刮傷風(fēng)險(xiǎn)；用噴槍對(duì)膜面微粒進(jìn)行近距離的清除時(shí)，由于氣壓的反作用力很容易造成槍嘴抖動(dòng)，不僅增加了對(duì)掩模版膜面的刮傷風(fēng)險(xiǎn)，還增加了人為制造的微粒掉落膜面的可能性。由于操作環(huán)境復(fù)雜且對(duì)操作人員熟練度要求較高，人為損傷掩模版光阻膜面的風(fēng)險(xiǎn)大大增加。一旦光阻膜面被剮蹭、劃傷，則需要重新涂布；而如果造成鉻層或玻璃基板的劃傷，則整個(gè)基板就徹底報(bào)廢，風(fēng)險(xiǎn)和代價(jià)巨大。

因此，掩模版輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域亟需一種可實(shí)現(xiàn)對(duì)多種尺寸掩模版光阻膜面微粒安全快速檢查及清除，并能防止掩模版膜面的二次污染的裝置，并依據(jù)該裝置提供一種掩模版膜面微粒清除的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種可實(shí)現(xiàn)對(duì)多種尺寸掩模版膜面微粒安全快速檢查及清除，且能防止掩模版膜面的二次污染的裝置，并依據(jù)該裝置提供一種掩模版膜面微粒清除的方法。

本發(fā)明通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種掩模版膜面微粒清除裝置，包括支座，所述支座的一側(cè)豎直設(shè)置兩根立柱，兩根所述立柱并列平行，兩根所述立柱上均設(shè)有可沿立柱滑動(dòng)的斜臂，兩根所述斜臂懸伸端朝遠(yuǎn)離立柱方向延伸的同時(shí)朝遠(yuǎn)離支座的方向延伸，兩根所述斜臂相對(duì)的側(cè)面之間設(shè)有可延斜臂滑動(dòng)的橫桿，所述橫桿上設(shè)置能進(jìn)行檢測(cè)和/或清除作業(yè)的功能模塊，所述功能模塊可延橫桿滑動(dòng)。

進(jìn)一步的，所述功能模塊包括與氣源管路相通的噴槍和與顯示屏信號(hào)連接的鏡頭。

進(jìn)一步的，所述功能模塊還包括PLC控制器，所述PLC控制器與噴槍的啟閉閥電性連接。

進(jìn)一步的，所述鏡頭為光學(xué)顯微鏡鏡頭。