[發明專利]一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法

有效

• 申請號: 202110045397.6
• 申請日: 2021-01-14
• 公開（公告）號: CN112387707B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 王偉軼;林偉;林超;周榮梵
• 申請（專利權）人: 成都路維光電有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B13/00
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 林菲菲

1.一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，該裝置包括支座（1），所述支座（1）的一側豎直設置兩根立柱（2），兩根所述立柱（2）并列平行，兩根所述立柱（2）上均設有可沿立柱（2）滑動的斜臂（3），兩根所述斜臂（3）懸伸端朝遠離立柱（2）方向延伸的同時朝遠離支座(1)的方向延伸，兩根所述斜臂（3）相對的側面之間設有可延斜臂（3）滑動的橫桿（4），所述橫桿（4）上設置能進行檢測和/或清除作業的功能模塊，所述功能模塊可延橫桿（4）滑動，所述功能模塊包括與氣源管路相通的噴槍（5）和與顯示屏信號連接的鏡頭（6）；

基于上述一種掩模版膜面微粒清除裝置的方法：

A、通過支承機構在斜臂（3）的斜下方架設掩模版（7），所述掩模版(7)設有膜面的一側與兩個斜臂（3）所在平面平行；

B、斜臂（3）沿立柱（2）滑動和/或橫桿（4）沿斜臂（3）滑動和/或功能模塊沿橫桿（4）滑動，直至功能模塊的作業端朝向掩模版（7）的一角；

C、橫桿（4）沿斜臂（3）滑動或功能模塊沿橫桿（4）滑動，鏡頭（6）采集掩模版(7)膜面形貌特征并傳遞給PLC控制器；

D、當鏡頭（6）識別到掩模版（7）膜面出現微粒時，PLC控制器向噴槍（5）發出清除指令；

E、噴槍（5）接收清除指令，執行整姿響應動作，將噴槍（5）噴射方向調整至與掩模版（7）成45°且正對微粒；

F、噴槍（5）執行噴氣響應動作，根據微粒大小調節噴氣壓力并吹掉微粒；

G、橫桿（4）沿著斜臂（3）滑動或功能模塊沿橫桿（4）滑動，使功能模塊的作業端以往復方式移動，形成覆蓋整個掩模版（7）膜面的S形路徑。

2.根據權利要求1所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述功能模塊還包括PLC控制器，所述PLC控制器與噴槍（5）的啟閉閥電性連接。

3.根據權利要求1所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述鏡頭（6）為光學顯微鏡鏡頭。

4.根據權利要求1所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述噴槍（5）包括多個并列設置的噴嘴，多個所述噴嘴的排列方向與橫桿（4）的延伸方向垂直。

5.根據權利要求1～4任意一項所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述立柱（2）朝向支座（1）幾何中心的側立面設有第一導軌（21），所述斜臂（3）端部與第一導軌（21）構成滑動連接。

6.根據權利要求5所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述斜臂（3）相對的側面上設有第二導軌（31），所述橫桿（4）的兩端分別與對應的斜臂（3）上的第二導軌（31）適配構成滑動連接。

7.根據權利要求6所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述橫桿（4）遠離立柱（2）的側面設有第三導軌（41），所述功能模塊與第三導軌（41）適配構成滑動連接。

8.根據權利要求1所述的一種掩模版膜面微粒清除裝置，其特征在于，所述支座（1）底部設有多個滾輪（92）；和/或，所述支座（1）上遠離斜臂（3）懸伸端的一側設有配重體（91）。