[發明專利]多孔吸盤的清洗方法有效
| 申請號： | 202110039308.7 | 申請日： | 2021-01-12 |
| 公開（公告）號： | CN112871853B | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發明（設計）人： | 張松濤;蘇朋;楊國文 | 申請（專利權）人： | 度亙激光技術(蘇州)有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08;B08B3/12;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 孫海杰 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市工業園區*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多孔 吸盤 清洗 方法 | ||
1.一種多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，包括以下步驟：
利用第一清洗溶液對多孔吸盤表面的無機物雜質進行清洗，其中，無機物雜質包括Ni-AuGe合金；
當所述多孔吸盤表面的無機物雜質清洗后，利用第二清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行清洗；
所述利用第一清洗溶液對多孔吸盤表面的無機物雜質進行清洗的步驟包括：
利用HCl：H2O2：H2O=1：1：1配比的溶液對待清洗的多孔吸盤浸泡清洗25~35min；
還包括在所述利用第二清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行清洗步驟之前進行的，利用第三清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行軟化；
所述利用第二清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行清洗的步驟包括：
利用丙酮對軟化后的多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質清洗5~10min；
再利用異丙醇對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質清洗5~10min。
2.根據權利要求1所述的多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，所述利用第三清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行軟化的步驟包括：
在75~85℃下，利用NMP溶液對去除無機物雜質的多孔吸盤浸泡20~30min。
3.根據權利要求1所述的多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，利用丙酮對軟化后的多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質清洗5min；
再利用異丙醇對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質清洗5min。
4.根據權利要求1所述的多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，還包括在所述利用第二清洗溶液對多孔吸盤的孔洞中的有機物雜質進行清洗的步驟之后進行的，采用頻率為1~5MHz的純水超聲波對多孔吸盤清洗10~20min。
5.根據權利要求4所述的多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，還包括對經過純水超聲波清洗的多孔吸盤進行干燥處理。
6.根據權利要求5所述的多孔吸盤的清洗方法，其特征在于，在100~120℃下對經過純水超聲波清洗的多孔吸盤進行烘干處理20~30min。
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