[發(fā)明專利]電漿清潔設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110036553.2
• 申請(qǐng)日: 2021-01-12
• 公開（公告）號(hào): CN114765102A
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林俊成;鄭耀璇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鑫天虹(廈門)科技有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32;H01L21/67;B08B7/00
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

1.一種電漿清潔設(shè)備，其特征在于，所述電漿清潔設(shè)備包括：

一腔體，具有腔體頂部與容置空間；

一射頻電極，連接所述腔體頂部；

一載臺(tái)，位于所述容置空間內(nèi)，并用以承載至少一基板；

一電極，連接所述載臺(tái)；及

一第一遮板，位于所述容置空間內(nèi)且相鄰所述腔體頂部，且所述第一遮板具有復(fù)數(shù)第一開口以形成一非平整底面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述所述第一遮板還包括復(fù)數(shù)第一封閉部，所述第一封閉部相鄰所述腔體頂部且與所述第一開口彼此相對(duì)，以在所述第一遮板形成復(fù)數(shù)凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述第一開口的截面積小于所述第一封閉部的截面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述凹槽還包括第一部分與第二部分，所述第一開口位于所述第一部分，而所述第二部分相鄰所述第一封閉部，其中所述第一部分的截面積小于所述第二部分的截面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述凹槽的截面積由所述第一開口朝所述第一封閉部的方向逐漸增加。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述凹槽的截面積由所述第一開口朝所述第一封閉部的方向逐漸減少。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述凹槽的截面積由所述第一開口朝所述第一封閉部的方向漸縮到零，且復(fù)數(shù)所述第一開口彼此緊鄰，以使所述第一遮板的縱切面的復(fù)數(shù)所述凹槽形成鋸齒狀。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述第一遮板的所述非平整底面涂布有化學(xué)材料，以使所述非平整底面形成凹凸面，以增加所述非平整底面的表面積。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，其中所述化學(xué)材料為氧化釔、氧化鋁或陶瓷。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電漿清潔設(shè)備，其特征在于，所述電漿清潔設(shè)備還包括還包括第二遮板，位于所述第一遮板與所述載臺(tái)之間，其中所述第二遮板具有復(fù)數(shù)下開口與復(fù)數(shù)上開口，且所述下開口連通所述復(fù)數(shù)上開口，以在所述第二遮板形成復(fù)數(shù)通孔。