[發明專利]導熱墊片的生產方法及設備

有效

• 申請號: 202110034932.8
• 申請日: 2021-01-12
• 公開（公告）號: CN112851992B
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發明（設計）人: 金天輝;許進;劉偉德
• 申請（專利權）人: 江蘇中迪新材料技術有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09D183/04;C09D7/61;B05B16/20;B05D3/02;B05D3/04;B05D5/00;B05D7/24
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張延薇

1.導熱墊片的生產方法，其特征在于，包括：

在基材膜上依次設置多層漿料涂層，得到導熱墊片基材，其中，所述漿料涂層中包括六方氮化硼，且各所述漿料涂層由噴涂漿料形成；

以及，在垂直于所述基材膜的方向上對所述導熱墊片基材進行切片處理，得到導熱墊片；

所述在基材膜上依次設置多層漿料涂層，得到導熱墊片基材，包括：噴涂步驟：在當前的基材膜上噴涂所述漿料，以在該基材膜上固化形成一新的漿料涂層；重復所述噴涂步驟，直至重復次數滿足預設數值。

2.根據權利要求1所述的導熱墊片的生產方法，其特征在于，在所述在基材膜上依次設置多層漿料涂層之前，還包括：

將所述六方氮化硼與預設基礎制劑混合制成用于形成所述漿料涂層的漿料；

其中，所述預設基礎制劑包括硅橡膠、有機溶劑、色漿和分散劑。

3.根據權利要求1所述的導熱墊片的生產方法，其特征在于，所述重復次數大于等于500次且小于等于2000次，每次噴涂所述漿料的厚度為大于等于0.15mm且小于等于0.20mm。

4.根據權利要求3所述的導熱墊片的生產方法，其特征在于，在所述在該基材膜上固化形成一新的漿料涂層中，所采用的固化溫度值大于等于80攝氏度且小于等于230攝氏度。

5.根據權利要求1所述的導熱墊片的生產方法，其特征在于，所述六方氮化硼的中位粒徑為大于等于20μm且小于等于40μm。

6.導熱墊片的生產設備，其特征在于，所述設備用于實施所述權利要求1-5中任意一項所述的方法，所述設備包括：

漿料涂層形成單元和基材傳送裝置，所述漿料涂層形成單元有至少兩個，各所述漿料涂層形成單元沿所述基材傳送裝置分布。

7.根據權利要求6所述的導熱墊片的生產設備，其特征在于，所述漿料涂層形成單元包括在所述基材傳送裝置的傳送方向上依次排列的噴涂裝置和烘箱，以使漿料噴涂到所述基材膜上后隨基材膜進入所述烘箱固化成所述漿料涂層。

8.根據權利要求7所述的導熱墊片的生產設備，其特征在于，所述漿料涂層形成單元還包括風冷裝置，所述風冷裝置位于所述烘箱的下游。