[發明專利]導熱墊片的生產方法及設備

有效

• 申請號: 202110034932.8
• 申請日: 2021-01-12
• 公開（公告）號: CN112851992B
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發明（設計）人: 金天輝;許進;劉偉德
• 申請（專利權）人: 江蘇中迪新材料技術有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09D183/04;C09D7/61;B05B16/20;B05D3/02;B05D3/04;B05D5/00;B05D7/24
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張延薇

本申請涉及導熱墊片生產技術領域，尤其涉及一種導熱墊片的生產方法及設備，包括：在基材膜上依次設置多層漿料涂層，得到導熱墊片基材，其中，所述漿料涂層中包括六方氮化硼；以及，在垂直于所述基材膜的方向上對所述導熱墊片基材進行切片處理，得到導熱墊片。本申請的目的在于針對目前導熱墊片的導熱性能不理想的問題，提供一種導熱墊片的生產方法及設備。

技術領域

本申請涉及導熱墊片生產技術領域，尤其涉及一種導熱墊片的生產方法及設備。

背景技術

導熱墊片是用于填充發熱器件和散熱件之間的空氣間隙，以高效的將發熱器件產生的熱量傳導給散熱件提高散熱效率的結構。目前，導熱墊片多采用氧化鋁、氮化鋁、氧化鎂、金屬粉末作為導熱填料，但導熱性能多不理想。

發明內容

本申請的目的在于針對目前導熱墊片的導熱性能不理想的問題，提供一種導熱墊片的生產方法及設備。

為了實現上述目的，本申請采用以下技術方案：

本申請的一個方面提供一種導熱墊片的生產方法，包括：

在基材膜上依次設置多層漿料涂層，得到導熱墊片基材，其中，所述漿料涂層中包括六方氮化硼；

以及，在垂直于所述基材膜的方向上對所述導熱墊片基材進行切片處理，得到導熱墊片。

可選地，在所述在基材膜上依次設置多層漿料涂層之前，還包括：

將所述六方氮化硼與預設基礎制劑混合制成用于形成所述漿料涂層的漿料；

其中，所述預設基礎制劑包括硅橡膠、有機溶劑、色漿和分散劑。

該技術方案的有益效果在于：通過在漿料制造過程中添加六方氮化硼作為主體導熱填料，能夠利用氮化硼導熱的異向性有效提高導熱墊片的導熱性能。

可選地，所述在基材膜上依次設置多層漿料涂層，得到導熱墊片基材，包括：

噴涂步驟：在當前的基材膜上噴涂所述漿料，以在該基材膜上固化形成一新的漿料涂層；

重復所述噴涂步驟，直至重復次數滿足預設數值。

該技術方案的有益效果在于：通過重復噴涂過程，能夠有效提高導熱墊片基材成型過程的可靠性。

可選地，所述重復次數大于等于500次且小于等于2000次，每次噴涂所述漿料的厚度為大于等于0.15mm且小于等于0.20mm。

該技術方案的有益效果在于：通過重復次數及漿料的厚度的設置，能夠精確地實現導熱墊片基材成型過程的標準化程度，以進一步提高導熱墊片的應用可靠性。

可選地，在所述在該基材膜上固化形成一新的漿料涂層中，所采用的固化溫度值大于等于80攝氏度且小于等于230攝氏度。

可選地，所述六方氮化硼的中位粒徑為大于等于20μm且小于等于40μm。

可選地，所述六方氮化硼的中位粒徑為3μm。

本申請的另一個方面提供一種導熱墊片的生產設備，所述設備用于實施上述的方法，所述設備包括：

漿料涂層形成單元和基材傳送裝置，所述漿料涂層形成單元有至少兩個，各所述漿料涂層形成單元沿所述基材傳送裝置分布。

可選地，所述漿料涂層形成單元包括在所述基材傳送裝置的傳送方向上依次排列的噴涂裝置和烘箱，以使漿料噴涂到所述基材膜上后隨基材膜進入所述烘箱固化成所述漿料涂層。

該技術方案的有益效果在于：通過噴涂裝置和烘箱依次實現漿料的噴涂和烘干。

可選地，所述漿料涂層形成單元還包括風冷裝置，所述風冷裝置位于所述烘箱的下游。