[發明專利]防偽紙張的制造設備和防偽紙張有效
| 申請號: | 202110034203.2 | 申請日: | 2021-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN112878107B | 公開(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發明(設計)人: | 劉衛東;陳庚;蹇鈺;王斌;趙紅梅;劉萃 | 申請(專利權)人: | 中鈔印制技術研究院有限公司;中國印鈔造幣集團有限公司 |
| 主分類號: | D21H27/00 | 分類號: | D21H27/00;D21H19/66;D21H21/40;D21H23/70;D21H25/06;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 汪海屏;王淑梅 |
| 地址: | 100070 北京市豐*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防偽 紙張 制造 設備 | ||
本發明提供了一種防偽紙張的制造設備和防偽紙張。防偽紙張的制造設備包括:紙張輸送裝置,紙張輸送裝置用于帶動紙張移動,使紙張順次經過施膠裝置、滲透緩沖裝置、曝光裝置、顯影裝置和干燥裝置;施膠裝置,施膠裝置用于在紙張的至少部分表面施加光敏材料;滲透緩沖裝置,滲透緩沖裝置用于使光敏材料滲透進入紙張;曝光裝置,曝光裝置用于對紙張進行局部圖案化地曝光處理;顯影裝置,顯影裝置用于至少局部洗脫紙張之上的光敏材料;干燥裝置,干燥裝置用于對紙張進行干燥處理。通過本發明的技術方案獲得的防偽紙張具有優異的防偽效果。
技術領域
本發明涉及防偽產品的技術領域,具體而言,涉及防偽紙張的制造設備、防偽紙張的制造方法和防偽紙張。
背景技術
相關技術中的防偽紙張通常設有防偽視窗。部分防偽視窗的制作是采用模切的方法在干燥紙張上切口形成。因此其難以形成精細圖案,較易被偽造。另有部分防偽視窗的制作是在抄紙過程中采用不沉積紙漿的方式形成的,也同樣存在難以形成精細圖案的問題。還有部分防偽視窗的制作采用浸漬的方法,通過在紙張纖維空隙中填充有機物質形成透明紙,同樣存在難以形成精細圖案且容易被偽造的問題。
發明內容
本發明旨在解決上述技術問題的至少之一。
為此,本發明的第一方面提供了一種防偽紙張的制造設備。
本發明的第二方面提供了一種防偽紙張的制造方法。
本發明的第三方面提供了一種防偽紙張。
為實現本發明的第一方面,本發明的實施例提供了一種防偽紙張的制造設備,包括:紙張輸送裝置,紙張輸送裝置用于帶動紙張移動,使紙張順次經過施膠裝置、滲透緩沖裝置、曝光裝置、顯影裝置和干燥裝置;施膠裝置,施膠裝置用于在紙張的至少部分表面施加光敏材料;滲透緩沖裝置,滲透緩沖裝置用于使光敏材料滲透進入紙張;曝光裝置,曝光裝置用于對紙張進行局部圖案化地曝光處理;顯影裝置,顯影裝置用于至少局部洗脫紙張之上的光敏材料;干燥裝置,干燥裝置用于對紙張進行干燥處理。
本實施例能夠在紙張的局部表面或全部表面形成精細的塑料化的防偽圖案,其圖案精細、難以偽造,防偽性能優異。
另外,本發明上述技術方案還可以具有如下附加技術特征:
上述技術方案中,曝光裝置包括:圖案生成裝置,圖案生成裝置用于限定出紙張的待曝光區域;輻照光源,輻照光源用于對待曝光區域進行輻照。
圖案生成裝置施加或覆蓋于紙張的至少部分表面,以由此限定出紙張的待曝光區域,輻照光源可向由圖案生成裝置限定出的待曝光區域施加光照,以使得待曝光區域的光敏材料發生光固化反應,并形成精細的局部圖案。
上述任一技術方案中,輻照光源的輻照光波長范圍為190納米至510納米。
190納米至510納米的長波紫外光或短波可見光能夠使得光敏材料被有效固化,保證局部精細化圖案清晰完整。
上述任一技術方案中,圖案生成裝置包括:光掩膜,光掩膜具有圖案,并用于覆蓋紙張施加光敏材料的區域,以通過圖案限定出待曝光區域;或投影裝置,投影裝置用于在紙張施加有光敏材料的區域進行投影以形成待曝光區域。
光掩膜或投影裝置均能夠形成或表征出較為精細化、邊界更為清晰細致的圖案,因此,本技術方案能夠進一步提高防偽圖案的精細化程度,提高紙張的防偽效果。
上述任一技術方案中,光掩膜為以整卷方式運行的柔性光掩膜,曝光裝置還包括光掩膜放卷裝置和光掩膜收卷裝置,光掩膜放卷裝置和光掩膜收卷裝置相互配合,以向紙張施加柔性光掩膜;或光掩膜為以閉環方式循環運行的柔性光掩膜,曝光裝置還包括光掩膜拼接裝置和循環運行裝置,光掩膜拼接裝置和循環運行裝置相互配合,以向紙張施加柔性光掩膜;或光掩膜為平板型光掩膜,曝光裝置還包括光掩膜套準裝置,光掩膜套準裝置用于將平板型光掩膜和紙張相互對準。
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