[發(fā)明專利]防偽紙張的制造設備和防偽紙張

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110034203.2
• 申請日: 2021-01-11
• 公開（公告）號: CN112878107B
• 公開（公告）日: 2022-09-30
• 發(fā)明（設計）人: 劉衛(wèi)東;陳庚;蹇鈺;王斌;趙紅梅;劉萃
• 申請（專利權）人: 中鈔印制技術研究院有限公司;中國印鈔造幣集團有限公司
• 主分類號: D21H27/00
• 分類號: D21H27/00;D21H19/66;D21H21/40;D21H23/70;D21H25/06;G03F7/00
• 代理公司: 北京友聯(lián)知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11343
• 代理人: 汪海屏;王淑梅

1.一種防偽紙張的制造設備（100），其特征在于，包括：

紙張輸送裝置（102），所述紙張輸送裝置（102）用于帶動紙張（200）移動，使所述紙張（200）順次經(jīng)過施膠裝置（104）、滲透緩沖裝置（106）、曝光裝置（108）、顯影裝置（110）和干燥裝置（112）；

所述施膠裝置（104），所述施膠裝置（104）用于在所述紙張（200）的至少部分表面施加光敏材料；其中，所述施膠裝置（104）由所述紙張（200）的第一側(cè)面在所述紙張（200）的局部表面涂布或印刷施加所述光敏材料；

所述滲透緩沖裝置（106），所述滲透緩沖裝置（106）用于使所述光敏材料滲透進入所述紙張（200）；

所述曝光裝置（108），所述曝光裝置（108）用于對所述紙張（200）進行局部圖案化地曝光處理；其中，所述曝光裝置（108）用于由所述紙張（200）的所述第一側(cè)面對所述紙張（200）施加所述光敏材料的區(qū)域進行局部圖案化地曝光處理；

所述顯影裝置（110），所述顯影裝置（110）用于至少局部洗脫所述紙張（200）之上的所述光敏材料；

所述干燥裝置（112），所述干燥裝置（112）用于對所述紙張（200）進行干燥處理；

其中，所述曝光裝置（108）包括：

圖案生成裝置（128），所述圖案生成裝置（128）用于限定出所述紙張（200）的待曝光區(qū)域；

輻照光源（126），所述輻照光源（126）用于對所述待曝光區(qū)域進行輻照；

所述圖案生成裝置（128）包括：

光掩膜（130），所述光掩膜（130）具有圖案，并用于覆蓋所述紙張（200）施加所述光敏材料的區(qū)域，以通過所述圖案限定出所述待曝光區(qū)域；

所述曝光裝置（108）在所述輻照光源（126）前還包含噴墨裝置，用于在所述光掩膜（130）上噴印可變圖文；所述輻照光源（126）發(fā)射的光線可以通過非噴印區(qū)域而無法通過噴印區(qū)域。

2.根據(jù)權利要求1所述的防偽紙張的制造設備（100），其特征在于，所述輻照光源（126）的輻照光波長范圍為190納米至510納米。

3.根據(jù)權利要求1所述的防偽紙張的制造設備（100），其特征在于，所述圖案生成裝置（128）還包括：

投影裝置（136），所述投影裝置（136）用于在所述紙張（200）施加有所述光敏材料的區(qū)域進行投影以形成所述待曝光區(qū)域。

4.根據(jù)權利要求1所述的防偽紙張的制造設備（100），其特征在于，

所述光掩膜（130）為以整卷方式運行的柔性光掩膜，所述曝光裝置（108）還包括光掩膜放卷裝置（138）和光掩膜收卷裝置（140），所述光掩膜放卷裝置（138）和所述光掩膜收卷裝置（140）相互配合，以向所述紙張（200）施加所述柔性光掩膜；或

所述光掩膜（130）為以閉環(huán)方式循環(huán)運行的柔性光掩膜，所述曝光裝置（108）還包括光掩膜拼接裝置（142）和循環(huán)運行裝置（144），所述光掩膜拼接裝置（142）和循環(huán)運行裝置（144）相互配合，以向所述紙張（200）施加所述柔性光掩膜；或

所述光掩膜（130）為平板型光掩膜，所述曝光裝置（108）還包括光掩膜套準裝置（146），所述光掩膜套準裝置（146）用于將所述平板型光掩膜和所述紙張（200）相互對準。

5.根據(jù)權利要求1所述的防偽紙張的制造設備（100），其特征在于，所述施膠裝置（104）包括：

涂布裝置（122），所述涂布裝置（122）用于在所述紙張（200）的至少部分表面涂布所述光敏材料；或

印刷裝置（124），所述印刷裝置（124）用于在所述紙張（200）的至少部分表面印刷所述光敏材料。