[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110026149.7
• 申請日: 2021-01-08
• 公開（公告）號: CN112718743A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 夏金瑋
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市靜航電子商務(wù)有限公司
• 主分類號: B08B9/087
• 分類號: B08B9/087;B08B5/04;B08B15/02;B08B13/00;B01D46/00;B01D46/10
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本發(fā)明公開的一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置，包括機(jī)體，所述機(jī)體內(nèi)部設(shè)有刻蝕腔，所述刻蝕腔上壁面固定設(shè)有等離子發(fā)射裝置，所述刻蝕腔下壁面固定設(shè)有向上延伸的工作臺，所述工作臺上端左右兩側(cè)端面設(shè)有開口相反且左右對稱的調(diào)節(jié)腔，所述調(diào)節(jié)腔上壁面與所述工作臺上端面之間連通設(shè)有調(diào)節(jié)導(dǎo)滑槽，本發(fā)明通過利用上下往復(fù)移動的刮取板實現(xiàn)對刻蝕腔內(nèi)壁面積累的聚合物進(jìn)行刮除，同時刮取板上升過程中斷開與刻蝕腔內(nèi)壁面的接觸，提高了聚合物清理的效率，同時本裝置加速刻蝕腔內(nèi)部氣體的流通，提高了刻蝕的效率，同時通過對過濾網(wǎng)的清理，有效的防止了過濾網(wǎng)的堵塞，提高刻蝕的精準(zhǔn)度的同時加快了刻蝕的速度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體為一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置。

背景技術(shù)

在高科技領(lǐng)域內(nèi)，芯片的加工成為了重中之重，芯片在加工過程中需要進(jìn)行半導(dǎo)體的刻蝕處理，現(xiàn)有技術(shù)中通常采用干法等離子刻蝕對半導(dǎo)體進(jìn)行加工，以便于提高刻蝕的精準(zhǔn)度，現(xiàn)有的干法等離子刻蝕仍存在一定的缺陷，刻蝕過程中產(chǎn)生的氣體聚合物容易吸附在刻蝕腔的內(nèi)壁面進(jìn)行堆積，利用真空泵對加速刻蝕腔內(nèi)部氣體流動的同時容易造成聚合物對濾網(wǎng)的堵塞，進(jìn)而影響刻蝕的速率與精準(zhǔn)度，本發(fā)明闡述的一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置，能夠解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本例設(shè)計了一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置，本例的一種半導(dǎo)體等離子刻蝕機(jī)清潔裝置，包括機(jī)體，所述機(jī)體內(nèi)部設(shè)有刻蝕腔，所述刻蝕腔上壁面固定設(shè)有等離子發(fā)射裝置，所述刻蝕腔下壁面固定設(shè)有向上延伸的工作臺，所述工作臺上端左右兩側(cè)端面設(shè)有開口相反且左右對稱的調(diào)節(jié)腔，所述調(diào)節(jié)腔上壁面與所述工作臺上端面之間連通設(shè)有調(diào)節(jié)導(dǎo)滑槽，所述調(diào)節(jié)腔內(nèi)部以及所述調(diào)節(jié)腔上側(cè)設(shè)有夾緊裝置，所述刻蝕腔遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一側(cè)的所述機(jī)體內(nèi)設(shè)有升降腔，所述升降腔與所述刻蝕腔之間連通設(shè)有左右對稱的導(dǎo)滑槽，所述升降腔內(nèi)部設(shè)有能夠上下移動的升降環(huán)，所述刻蝕腔遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一側(cè)上下壁面之間固定設(shè)有左右對稱的支撐桿，所述支撐桿遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一側(cè)端面設(shè)有開口向同側(cè)所述導(dǎo)滑槽一側(cè)的支撐導(dǎo)滑腔，所述支撐導(dǎo)滑腔內(nèi)部設(shè)有能夠上下滑動的伸縮塊，所述伸縮塊遠(yuǎn)離所述工作臺一側(cè)端面設(shè)有開口向外的伸縮腔，所述伸縮腔內(nèi)部設(shè)有能夠左右伸縮的伸縮桿，所述伸縮桿遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一端固定設(shè)有能夠上下移動的刮取板，左右兩側(cè)所述刮取板外圓面與所述刻蝕腔內(nèi)壁面相互抵接，所述導(dǎo)滑槽對應(yīng)位置的所述升降環(huán)內(nèi)圓面設(shè)有開口向所述工作臺軸心一側(cè)的推動腔，所述過濾網(wǎng)內(nèi)部設(shè)有能夠左右移動的推動桿，所述推動桿能夠穿過所述導(dǎo)滑槽延伸至所述刻蝕腔內(nèi)并與同側(cè)所述刮取板外圓面固定連接，左右兩側(cè)所述刮取板前后兩端均設(shè)有開口向外的回收腔，所述回收腔內(nèi)部設(shè)有能夠滑動的回收板，所述回收板遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一側(cè)端面設(shè)有開口向外的補(bǔ)償板存放腔，所述補(bǔ)償板存放腔內(nèi)部設(shè)有能夠滑動的刮取補(bǔ)償板，所述刮取補(bǔ)償板延伸出所述補(bǔ)償板存放腔時能夠與所述刻蝕腔內(nèi)壁面抵接，所述刻蝕腔下側(cè)設(shè)有同步帶輪腔，所述同步帶輪腔上側(cè)設(shè)有聚合物存放腔，所述聚合物存放腔上壁面與所述刻蝕腔下壁面之間連通設(shè)有環(huán)形的聚合物輸送腔，所述工作臺下側(cè)的所述機(jī)體內(nèi)設(shè)有往復(fù)腔，所述往復(fù)腔下端左壁面與所述聚合物輸送腔之間連通設(shè)有聚合物推送腔，所述聚合物推送腔上壁面與所述刻蝕腔下壁面之間連通設(shè)有氣體流動通道，所述聚合物推送腔上側(cè)的所述往復(fù)腔左壁面與所述氣體流動通道之間連通設(shè)有擠壓板運(yùn)行通道。

可優(yōu)選的，所述等離子發(fā)射裝置能夠發(fā)射等離子體，所述調(diào)節(jié)腔內(nèi)部設(shè)有能夠沿著靠近或遠(yuǎn)離所述工作臺軸心一側(cè)移動的調(diào)節(jié)導(dǎo)滑塊，所述調(diào)節(jié)導(dǎo)滑塊靠近所述工作臺軸心一側(cè)端面與同側(cè)所述調(diào)節(jié)腔靠近所述工作臺軸心一側(cè)壁面之間固定設(shè)有調(diào)節(jié)彈簧，所述調(diào)節(jié)導(dǎo)滑塊上端面固定設(shè)有貫穿同側(cè)所述調(diào)節(jié)導(dǎo)滑槽并延伸出所述工作臺上端面的調(diào)節(jié)支桿，所述調(diào)節(jié)支桿上端均固定設(shè)有相互對稱的夾板，所述夾板靠近所述工作臺軸心一側(cè)固定設(shè)有彈性保護(hù)層，相鄰兩個所述彈性保護(hù)層之間放置有硅片。